판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K
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TEL / TOKYO ELECTRON
Alpha 303i-K
Furnace Process: D-Poly Process pressure: 73 Pa, 133 Pa Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C Boa
319
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TEL / TOKYO ELECTRON
Alpha 303i-K
LPCVD Furnace, 12" Process: PIQ (100) Process wafers I/O Port / SMIF: FOUP No load lock 25-Carrier s
287
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TEL / TOKYO ELECTRON
Alpha 303i-K
Furnace, 12" Gases: SiH4, Si2H6, H2, ClF3, LTO520 (Liquid) 2004 vintage.
553
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TEL / TOKYO ELECTRON
Alpha 303i-K
Vertical LPCVD furnace, 12" Process: TEOS (100) Process wafers I/O Port / SMIF: FOUP No load lock 25
460
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TEL / TOKYO ELECTRON
Alpha 303i-K
Vertical diffusion furnace, 12" Process: TEOS 2005 vintage.
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