판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293608018

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K는 고급 확산 로이자 반도체 산업의 연구, 생산 및 품질 관리 작업에 필수적인 도구입니다. 정확하고 균일 한 도펀트 프로파일을 만들고 처리 중 전기 누출을 방지하도록 설계되었습니다. 이 용광로는 SOI (silicon-on-insulator) 층의 증착을 위해 특별히 설계되었으며, 변형 엔지니어링, 다중 계층 증착 및 고성능 반도체 장치 생산에 적합합니다. TEL ALPHA 303IK는 고급 난방 장비를 갖춘 200-1200 ° C의 온도 범위를 특징으로하여 균일하고 정확한 온도 분포를 보장합니다. 또한 처리 중 기판 온도를 정확하게 제어하기위한 폐쇄 루프 열전 냉각기 (TEC) 가 장착되어 있습니다. 고급 히터 컨트롤러는 낮은 전력 소비량을 제공하여 향상된 난방 시스템 성능을 제공합니다. 또한, 고유 한 웨이퍼 레벨 도펀트 검증 장치는 웨이퍼 레벨 변형이 존재하는 경우에도 정확한 프로세스 모니터링을 제공합니다. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K에는 균일하고 정확한 가스 분배를 제공하는 고급 강제 흐름 가스 분산기가 포함되어 있습니다. 이 도구는 기질을 따라 가스 농도의 변동을 최소화함으로써 화학 증기 증착 (CVD) 및 기타 공정의 균일 성을 유지하는 데 도움이됩니다. 확산 로와 함께, 쿼츠 난방 요소, 수동 및 자동 컨베이어 모터, 웨이퍼 척 등 다양한 액세서리도 있습니다. 이러한 액세서리는 효율적인 처리와 낮은 오염을 가능하게합니다. 또한 ALPHA 303IK는 반도체 재료의 신속한 냉각 및 안정화를 위해 유연한 냉각 자산을 갖추고 있습니다. 자가 유체 (autofluid) 모델은 온도를 효율적으로 관리하고 냉각 과정 전반에 걸쳐 웨이퍼 수준의 열 균일성을 보장합니다. 또한, 수상 경력에 빛나는 지능형 진공 통풍 장비는 효율적인 운영을 촉진하고 공정 챔버에서 압력 축적을 방지합니다. ALPHA 303 I K는 안전하고 안정적인 작동을 위해 제작되었습니다. 비상 차단 및 인터 록과 같은 여러 안전 기능이 포함되어 있습니다. 또한, 용광로에는 직관적 인 GUI가 장착되어 있어 프로그래밍과 작업이 용이합니다. 전반적으로, 알파 303i-K (Alpha 303i-K) 는 반도체 연구 및 생산의 요구를 충족시키기 위해 설계된 고급적이고 신뢰할 수있는 확산 로입니다.