중고 마스크 & 웨이퍼 검사 판매용
마스크 및 웨이퍼 검사는 반도체 제조에서 중요한 프로세스로, 집적 회로 (IC) 의 품질과 신뢰성을 보장합니다. 그것 은 "마스크 '를 검사 하는 일 과 관련 되는데, 이것 은 반도체" 웨이퍼' 의 "패턴 '을 정의 하는 데 사용 되는 것 과 IC 가 만들어지는 기판 인" 웨이퍼' 자체 가 포함 된다. 마스크 검사의 목표는 패턴 전달 과정에 영향을 줄 수있는 마스크 표면에서 모든 결함 (예: 입자, 긁힘, 디어 미네이션) 을 검출하는 것입니다. 이러한 결함은 제조 과정에서 항복 손실 또는 장치 장애를 일으킬 수 있습니다. 검사 시스템은 광학 (optical) 이나 전자 빔 이미징 (electron beam imaging) 과 같은 고급 기술을 사용하여 마스크를 스캔하고 높은 정확도와 속도로 결함을 식별합니다. 그런 다음 "마스크 '검사 로 얻은" 데이터' 를 사용 하여 "마스크 '를 수리 하거나 대치 하여" 패턴' 의 무결성 을 보장 한다. 반면에, 웨이퍼 검사는 증착, 리소그래피, 에칭 및 임플란테이션을 포함한 다양한 IC 제작 단계에서 발생하는 결함을 식별하기 위해 수행된다. 웨이퍼 서피스 (wafer surface) 나 레이어 내의 결함은 IC 의 기능과 성능에 영향을 미칠 수 있습니다. 검사 시스템은 정교한 이미징 기술을 사용하여 오염, 패턴 편차 (pattern deviations), 전기 이상 (electrical anomalies) 과 같은 결함에 대한 웨이퍼를 검사합니다. 이를 통해 결함을 감지 및 분류하여 재작업 (rework) 이나 결함 웨이퍼 폐기 (disposal of defective wafer) 와 같은 적절한 조치를 취할 수 있습니다. "마스크 '와" 웨이퍼' 검사 는 전반적 으로 반도체 장치 의 질 과 신뢰성 을 보장 하는 데 중요 한 역할 을 한다. 이른바 "전자산업 (Electronics Industry) '의 요구 사항을 충족할 수 있게 해 줄 수 있게 해 주는 규격 축소와 IC의 복잡성 증대에 맞춰 지속적으로 발전하는" 검사 기술' 의 발전이 필수적이다.
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