판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9357675
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TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K 확산 로와 액세서리는 다양하고 안정적인 난방 장비 솔루션으로, 다양한 재료에 대해 안정적이고 고성능 열 처리를 제공하도록 설계되었습니다. 고온 다지대 예열실 (multi-zone preheating chamber) 과 상단 반응 챔버 (reaction chamber) 가 장착 된 완전 자동 프로세스 컨트롤러입니다. 텔 알파 303IK (TEL ALPHA 303IK) 에는 일련의 고정도 히터, 열전대 및 기타 센서를 갖춘 고급 I/O 장비가 있어 전체 프로세스에 걸쳐 최적의 처리 환경을 유지합니다. 고로 (furnace) 는 절연 환경이 높은 견고한 구조로 과열 (over-temperature) 과 과열 (overheating) 의 위험없이 저온 작동이 가능합니다. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K는 매우 높은 처리량을 요구하도록 설계되었습니다. 고온 다중 구역 프리 히트 챔버와 상단 반응 챔버가 특징입니다. 다중 구역 프리 히트 챔버 (multi-zone preheat chamber) 는 최대 1000 ° C의 온도에서 존 당 최대 3 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있으며, 다양한 재료에 대한 신뢰할 수있는 열 처리를 제공합니다. 상단 반응 챔버 (upper level reaction chamber) 는 최대 1050 ° C의 강력한 온도를 달성하도록 설계되었으며, 이는 최적의 성능을 위해 설계된 고급 절연 환경에서 가능합니다. 또한, 반응 챔버는 정밀한 온도 프로그래밍 및 3 구역 컨트롤을 갖춘 매우 정밀한 PID 온도 제어 시스템 (PID temperature control system) 을 갖추고 전체 프로세스 전체에서 균일 한 온도를 제공합니다. ALPHA 303 I K는 10 "x 10" 의 작동 용량을 특징으로하며 개별적으로 조절 가능한 레이저 강제 가스 분사를 갖춘 고효율 스프레이 매니 폴드를 갖추고 있습니다. 이것은 반응 챔버 전체에서 일관되고 심지어 가스의 증착을 보장합니다. 또한, 이 장치는 고정밀 난방기로 설계되어 정확하고 반복 가능한 작동이 가능합니다. 터치 스크린 디스플레이 (touch-screen display) 와 직관적인 인터페이스를 사용하여 운영 조건을 실시간으로 모니터링 및 수정할 수 있습니다. TEL ALPHA 303 I K는 빠른 열 처리 및 확산 결합 응용 프로그램을위한 훌륭한 도구입니다. 이 제품은 안정적인 성능을 위한 견고한 구성으로 설계되었으며, 이 도구의 고급 안전 (Advanced Safety) 기능은 열 응용프로그램 (Thermal Application) 의 오류에 대한 높은 수준의 보호 기능을 제공합니다. 또한, 용광로 (Furnace) 의 교체 가능한 부품과 업그레이드 가능한 용량은 여러 프로세스를 빠르고 효율적으로 실행할 수 있는 탁월한 선택입니다. 이 확산 용광로 (diffusion furnace) 와 액세서리 (accessory) 는 다양한 재료에 대한 빠르고 효율적인 열 처리를 위해 설계된 신뢰할 수있는 전기 가열 솔루션입니다.
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