중고 노출 시스템 판매용
노출 시스템 장비 (Exposure Systems equipment) 는 반도체 제조 및 리소그래피 프로세스 분야에서 사용되는 다양한 장치 및 기계를 말합니다. 이 시스템은 포토리스 (photoresist) 코팅 된 웨이퍼 (wafer) 를 특정 광원 패턴에 노출시켜 웨이퍼 표면에 회로 설계를 정확하게 전달 할 수 있도록 설계되었습니다. 노출 시스템 장비는 여러 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 첫 번째는 광원 (일반적으로 레이저 또는 수은 아크 램프) 으로, 필요한 파장의 빛을 방출합니다. 그런 다음, 이 빛 은 일련의 거울, "렌즈 '및" 필터' 를 통하여 그 강도, 편광 및 스펙트럼 특성 을 조절 한다. 그 후, 빛은 레티클 (reticle) 에 초점을 맞추고 있으며, 여기에는 웨이퍼로 이동하려는 패턴이 포함되어 있습니다. 레티클은 정교한 정렬 시스템을 사용하여 정확한 패턴 복제를 보장합니다. 또한, 노출 시스템 (Exposure Systems) 장비는 노출 과정에서 웨이퍼를 정확하게 이동 및 배치할 수있는 고급 스테이지 시스템을 통합합니다. 노출 매개변수를 제어하기 위해, 이러한 시스템은 노출 시간 (exposure time) 및 용량 (dose) 과 같은 다양한 매개변수의 실시간 모니터링 및 조정을 제공하는 소프트웨어 및 컴퓨터 제어 시스템을 사용합니다. 따라서 일관되고 안정적인 노출 결과를 얻을 수 있습니다. 노출 시스템 (Exposure Systems) 장비는 반도체 제조에서 중요한 역할을하며, 고품질 집적회로 생성에 필요한 정확하고 반복 가능한 광 노출을 제공합니다. 이 장비의 혁신을 통해 디바이스 소형화 (device miniaturization), 향상된 수익률, 향상된 생산 처리량 등의 개선이 가능해졌습니다. 전반적으로, 노출 시스템 (Exposure System) 장비는 반도체 제조 공정의 중요한 부분을 나타내며, 매우 정밀하고 정확하게 웨이퍼에 복잡한 회로 패턴을 만들 수 있습니다.
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