중고 웨이퍼 & 마스크 스크러버 판매용
웨이퍼 및 마스크 스크러버 (wafer and mask scrubber) 는 반도체 제조 공정에 사용되는 중요한 장비입니다. 이 기계는 집적회로 생산에 사용하기 전에 "웨이퍼 '와" 마스크' 를 청소하고 준비하는 역할을 한다. "스크러버 '는 기계· 화학· 초음파 공정 의 조합 을 이용 하여" 웨이퍼' 와 "마스크 '의 표면 에서 오염 물질 을 제거 함 으로써 작용 한다. 이 프로세스는 재료의 깨끗함과 무결성을 보장하는 다단계 프로세스입니다. 첫째, 웨이퍼와 마스크는 스크러버 챔버 (scrubber chamber) 에 적재되며, 여기서 고압 분무의 사이온화 된 물을 받는다. 이 물은 표면에 존재할 수있는 느슨한 입자를 제거합니다. 다음으로, 스크러버는 완고 하거나 접착 된 오염 물질을 제거하기 위해 화학 물질과 초음파 진동의 조합을 사용합니다. 이 과정 에 사용 된 화학 물질 들 은 광저장제, 유기 "필름 ', 금속성 불순물 과 같은" 웨이퍼' 와 "마스크 '에서 발견 할 수 있는 여러 종류 의 오염 물질 을 용해 시키기 위해 구체적 으로 제식 된다. 초음파 진동은 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 의 표면을 동요시키는 고주파 (high-frequency wave) 를 만들어 남은 입자를 분리하고 제거하는 데 도움을 주어 청소 과정을 향상시킵니다. 청소 과정 이 끝난 후, "웨이퍼 '와" 마스크' 는 모든 잔류 한 화학 물질 을 제거 하기 위해 전이온 '화 한 물 로 철저 히 찢어진다. 이 단계에서 새로운 오염 물질이 도입되지 않도록 특별한주의를 기울입니다. 전반적 으로, "웨이퍼 '와" 마스크 스크러버' 는 생산 과정 에 사용 되는 물질 의 청결 함 과 무결성 을 보장 함 으로써 반도체 제조 에 중요 한 역할 을 한다. 반도체 업계의 엄격한 요구사항을 충족시키고 집적회로 (integrated circuit) 기능을 향상시키는 데는 스크러버 (scrubber) 기술의 지속적인 개선이 필수적이다.
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