중고 스퍼터링 시스템 판매용

스퍼터링 시스템 (Sputtering Systems) 장비는 전자, 광학, 에너지 등 다양한 산업에서 박막 증착 프로세스의 핵심 요소입니다. 이 시스템은 스퍼터링 (sputtering) 과정을 통해 다른 재료의 박막을 기판 표면에 배치하도록 설계되었습니다. 스퍼터링 공정은 일반적으로 플라즈마에 의해 생성 된 고에너지 이온 (ion) 으로 대상 물질을 폭격하는 것을 포함한다. 이 폭격 은 표적 물질 의 원자 혹은 분자 들 을 지표면 에서 분출 하여 "기질 '을 향해 이동 하게 한다. 기판에 도달하면, 분출 된 입자는 응축되고 얇은 필름을 형성한다. 스퍼터링 시스템 장비는 몇 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 주요 구성 요소는 스퍼터링 챔버 (sputtering chamber) 이며, 대상 재료와 기판을 수용합니다. 약실 내부 에, 공기 분자 로부터의 간섭 을 막기 위해 진공 환경 이 조성 된다. "가스 '의" 이온' 화 를 통하여 생성 되는 "플라즈마 '는" 이온' 폭격 의 원인 이 된다. 스퍼터링 시스템 장비의 중요한 구성 요소는 대상 재료 자체입니다. 대상은 일반적으로 기판에 박막 (thin film) 으로 증착 될 물질로 만들어진다. 대상 재료 선택은 최종 박막 (컴포지션, 구조, 두께 등) 의 특성을 결정합니다. 스퍼터링 시스템 장비 (sputtering systems equips) 의 다른 중요한 구성 요소로는 가스의 이온화와 플라즈마 생성에 필요한 에너지를 제공하는 전원 공급 장치 (power supplies) 와 증착 과정에서 기판을 고정시키는 기판 홀더 (substrate holder) 가 있습니다. 전반적으로, 스퍼터링 시스템 (Sputtering Systems) 장비는 속성을 정확하게 제어하는 고품질의 박막 제작에 중요한 역할을합니다. 이러한 시스템은 다양한 어플리케이션의 고급 전자 장치, 광학 코팅, 에너지 효율적인 코팅의 개발 및 제조를 가능하게합니다.

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