판매용 중고 DISCO DAG 810 #293771569

ID: 293771569
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2017
Grinder, 8" Load current: 10 A Breaker rating: 30 A Ampere: 3 A Interrupting capacity: 14 kA Short circuit current rating: 1.5 kA Frame type Power supply: 200 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz 2017 vintage.
DISCO DAG 810은 반도체 산업이 실리콘 웨이퍼의 정확하고 고품질 표면 마무리를 달성하기 위해 설계된 최첨단 웨이퍼 그라인딩, 랩핑, 연마 장비입니다. 이 도구는 반도체 제작 (fabrication) 프로세스의 중요한 구성 요소로, 향상된 성능과 신뢰성을 갖춘 고급 마이크로칩 (microchip) 과 전자 장치 (electronic device) 의 생산을 가능하게 합니다. DISCO DAG810 시스템은 고급 기술과 기능으로, 실리콘 웨이퍼를 효율적이고 정확하게 처리할 수 있습니다. 이 장치는 그라인딩 (grinding), 랩핑 (lapping) 및 연마 (polishing) 기능을 단일 플랫폼에 통합하여 수작업을 최소화하면서 원활하고 자동화된 웨이퍼 처리를 지원합니다. 이 통합된 접근 방식은 일관되고 반복 가능한 결과를 보장하며, 높은 수율을 달성하고, 반도체 업계의 엄격한 품질 요구 사항을 충족하는 데 필수적입니다. DAG 810 머신의 핵심 구성 요소 중 하나는 그라인딩 모듈 (grinding module) 으로, 웨이퍼 (wafer) 표면에서 과도한 재료를 제거하여 원하는 두께와 평탄도를 달성합니다. 이 도구는 고정밀 그라인딩 휠 (grinding wheel) 과 고급 제어 알고리즘을 사용하여 재료 제거 속도를 제어하고 다른 응용 프로그램에 대한 표면 거칠기를 최적화합니다. 이를 통해 반도체 장치 제작에서 웨이퍼 두께 (wafer thickness) 와 평탄도 (flatness) 를 정확하게 제어할 수 있습니다. 연삭 (grinding) 외에도 DAG810 자산은 랩핑 및 연마 모듈을 통합하여 웨이퍼의 표면 품질을 더욱 향상시킵니다. 랩핑 (lapping) 프로세스에는 서브 표면 손상을 제거하고 균일 한 표면 마무리를 달성하기 위해 연마제 슬러리 및 회전 플레이트 (rotating plate) 가 사용됩니다. 반면, 연마 모듈은 연마 패드 (polishing pad) 와 화학 물질을 사용하여 나노 미터 (sub-nanometer) 거친 값으로 거울 같은 표면 마무리를 달성합니다. DISCO DAG 810 모델은 정교한 제어 장비로, 성능 및 품질을 최적화하기 위해 핵심 처리 매개변수를 실시간으로 모니터링, 조정할 수 있습니다. 이 시스템에는 고급 센서와 피드백 메커니즘이 장착되어 있어 처리 조건 (예: 속도, 압력, 온도) 을 정확하게 제어할 수 있습니다. 이러한 제어 수준은 여러 웨이퍼 (wafer) 및 운영 실행에서 일관된 결과를 얻기 위해 필수적입니다. 또한, DISCO DAG810 장치는 확장성과 유연성을 염두에 두고 설계되었으며, 다른 반도체 제조 장비와의 사용자 정의 및 통합이 가능합니다. 이 기계는 다양한 웨이퍼 (wafer) 크기와 재료 유형을 수용하도록 구성 될 수 있으며, 반도체 업계의 다양한 응용 분야에 적합합니다. 전반적으로 DAG 810 웨이퍼 그라인딩, 랩핑, 다듬기 도구 (polishing tool) 는 반도체 처리 기술의 최신 발전을 나타내며, 반도체 제조업체는 실리콘 웨이퍼에서 고품질 표면 마무리를 달성하기위한 안정적이고 효율적인 솔루션을 제공합니다. DAG810 자산은 고급 기능, 정확한 제어 능력, 통합 잠재력 (integration potential) 을 갖춘 반도체 제작 설비를 위한 필수 툴로서, 생산 프로세스를 최적화하고 업계의 까다로운 요구사항을 충족시키고자 합니다.
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