판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9250080

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V는 다양한 마이크로 세공 응용 분야에 사용되는 고급 포토 esist 장비입니다. Photoresist는 반도체 장치 제작, MEMS (microelectromechanical system) 및 FPD (flat panel display) 생산을 포함한 다양한 유형의 프로세스에 사용되는 광감수성 물질입니다. TEL Mark V는 포토 esist 재료의 정확한 코팅 및 패턴을 용이하게합니다. 이 시스템은 CT17 시리즈 코팅 챔버, 고급 패턴화 장치, 다양한 주변 장치로 구성됩니다. CT17 시리즈는 고정밀 고속 커버를 특징으로하며 최대 균일성은 ± 0.2% 입니다. 이 코팅 챔버는 드라이 필름 포토 esist, 솔루션 및 윤활제를 포함한 다양한 유형의 포토 esist 재료에 사용될 수 있습니다. 또한 재순환 공기 커튼 (recirculating air curtain) 이 통합되어 고도의 균일성과 더 긴 노출 시간을 달성하여 고급 광 석기 응용 분야에 이상적입니다. TOKYO ELECTRON MARK-V의 고급 패턴 링 머신에는 각각 최대 노출 전력이 10 배인 2 개의 개별 조사기가 있습니다. 이를 통해 현대 소액화 (microfabrication) 프로세스에 필수적인 더 다양한 노출 각도와 더 높은 종횡비가 가능합니다. 또한 패턴화 도구 (patterning tool) 에는 기판에 포토레시스트의 정밀 배치 및 정렬을 보장하는 정렬 에셋이 내장되어 있습니다. TOKYO ELECTRON Mark V 주변 장치에는 초음파 청소기, 핫 플레이트 스핀 프로세서 및 노출 트랙 컨트롤러가 포함됩니다. 초음파 청소기는 에칭 또는 노출 전에 포토리스 스트 코팅 된 기질을 청소하는 데 사용됩니다. 핫 플레이트 스핀 프로세서 (Hotplate spin processor) 는 기판의 정확하게 제어 된 가열을 허용하며, 이는 포토 esist의 균일 한 코팅에 필수적입니다. 노출 트랙 컨트롤러 (Exposure Track Controller) 는 스테퍼 또는 서보 기반 노출 프로세스를 제공하여 정확한 이동과 최대 처리량을 보장합니다. 결론적으로, TEL MARK-V는 마이크로 세공 응용을위한 신뢰할 수 있고 효과적인 포토 esist 모델을 제공합니다. 고정밀도 (high-precision), 고속 (high-speed) 커버링 및 정확한 패턴화 기능의 결과로, 이 장비는 광범위한 광석기 공정에 적합합니다. 다양한 주변 장치와 결합된 Mark V 는 다양한 microfabrication 프로세스를 위한 비용 효율적이고 효율적인 솔루션을 제공합니다.