판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9111393

TEL / TOKYO ELECTRON Mark V
ID: 9111393
Coaters.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Equipment (TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Equipment) 는 기존의 마스크 제작 및 리소그래피 프로세스보다 뛰어난 패턴화 기능을 제공하는 프로세스 통합 마스크 없는 리소그래피 시스템입니다. 이 장치는 다양한 구성 요소로 구성되어 있으며, 각 구성 요소는 정확하고 효율적인 패턴 (patterning) 기능을 제공하도록 설계되었습니다. 기계의 중심부에는 광광학 광학 스캐닝 도구 (photo-optical optical scanning tool) 가 있는데, 기판의 photoresist 레이어에 이미지를 투영하는 데 사용됩니다. 이 자산은 고해상도 레이저 스캐너, 이중 스캔 광학 모델 및 미세 조정 광학 모듈로 구성됩니다. 이 장비는 이미지 품질이 높은 기판에서 우수한 사진 해설을 달성 할 수 있습니다. TEL Mark V는 Windows 10 기반의 사용자 친화적 시스템 컨트롤러로 구동되며, 이를 통해 장치 구성 요소를 정확하고 반복적으로 제어할 수 있습니다. 컨트롤러에는 그래픽 포토마스크 편집기 (graphical photomask editor) 와 다양한 응용 소프트웨어가 장착되어 있어 포토리스토그래피 (photolithography) 프로세스의 설정 및 자동화를 지원합니다. 포토레스 장치 (photoresist machine) 의 시작 부분에서, 정렬 도구는 기판을 정확하게 등록하고 이미징을 위해 올바른 방향으로 지정하는 데 사용됩니다. 공구에는 또한 웨이퍼 클램핑 메커니즘 (wafer clamping mechanism) 이 장착되어 있어 노출 과정에서 기판이 고정되어 있는지 확인합니다. 이미지의 최적의 선명도를 보장하기 위해 TOKYO ELECTRON MARK-V (TOKYO ELECTRON MARK-V) 는 광 노출 패턴의 강도와 균일성을 정확하게 제어하기 위해 비 접촉 레이저 측정 자산을 갖추고 있습니다. 이 모델에는 기판 배치 및 노출에 대한 실시간 분석 (Real Time Analysis) 을 위해 샘플 모니터링 장비가 장착되어 있습니다. 이미징 측면에서, 이 photoresist 시스템은 0.2 um, 라인 너비 0.2 um의 패턴을 생성 할 수 있으며, 이는 반도체, MEMS, 광학 센서 등을 포함한 다양한 응용 분야에 적합합니다. 효율적이고 편리한 작동을 위해 Mark V 는 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 사용자가 장치 구성 요소를 구성, 모니터링, 문제 해결하도록 합니다. 이 기계는 또한 다양한 오류 감지 (error detection) 기능을 제공하여 안정적인 프로세스 제어를 제공하고 다운타임을 최소화합니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Tool은 사진 해설을 위한 고급적이고 강력한 선택으로, 사용자 친화적 인 소프트웨어와 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 뛰어난 이미징 기능과 효율적인 작동을 제공합니다.
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