판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #293681867

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V는 반도체 장치 제조를 위해 설계된 고급 포토 esist 장비입니다. 박막 (Thin-film) 구조를 장치의 여러 계층으로 정확하게 패턴화할 수있는 고급 시스템입니다. 이 장치는 매우 정밀하고 매우 낮은 드리프트 (drift) 광학 스캐닝 머신 (scanning machine) 으로 구성되며, 이를 통해 장치의 표면에 거의 모든 종류의 구조를 패턴화할 수 있습니다. 이 도구는 또한 효율적인 웨이퍼 처리, 초점 및 노출 제어 자동화, 포스트 프로세싱을위한 통합 가스 분사 시스템 (gas-injection system) 을위한 다양한 기능을 갖추고 있습니다. TEL Mark V photoresist 자산은 두 가지 주요 부품, 즉 광 스캐닝 모델과 제어 장비로 구성됩니다. 광학 스캐닝 시스템은 2 차원 격자와 오프 축 정렬 장치로 구성됩니다. 그리드 (Grid) 는 박막 구조를 장치에 빠르게 스캔하고 패턴화하는 데 사용됩니다. 축이 아닌 정렬 머신 (off-axis alignment machine) 은 각각의 스캔을 수행하기 전에 격자의 패턴을 확인하는 데 사용됩니다. 제어 도구 (Control Tool) 는 이중 프로세서 아키텍처를 기반으로 하며, 에셋은 필요한 명령을 신속하게 계산하여 격자의 동작을 제어하고 광학 경로 성능을 최적화할 수 있습니다. 제어 모델에는 실시간 적응 (real-time adaptivity) 및 속도 제어 (speed control) 와 같은 고급 알고리즘이 포함되어 있어 연산자가 실시간으로 광학 경로 성능 (Optical Path Performance) 을 조정하고 최적화할 수 있습니다. 먼저 TOKYO ELECTRON MARK-V photoresist 장비를 사용하려면 장치 웨이퍼를 시스템에 로드해야합니다. 이 작업은 수동 또는 자동 로더로 수행할 수 있습니다. 장치가 로드되면, 연산자는 박막 패턴화 프로세스를 시작할 수 있습니다. 박막 구조는 연산자가 선택한 해상도 (resolution) 와 크기에서 장치에 패턴화됩니다. 이 과정에서 장치의 이중 프로세서 아키텍처 (dual-processor architecture) 를 통해 운영자는 시스템 매개변수를 실시간으로 제어할 수 있고, 필요에 따라 초점 (focus) 과 노출 (exposure) 수준을 조정할 수 있습니다. 패턴화 과정이 완료되면 "웨이퍼 (wafer) '를 제거한 다음" 가스 주입' 시스템을 이용해 후처리할 수 있다. 이를 통해 박막 (Thin-film) 구조를 더욱 최적화하고 장치의 물리적 신뢰성을 높일 수 있습니다. 또한, Mark V photoresist 자산에는 고급 데이터 기록 기능이 있어 운영자가 전체 디바이스 구성 프로세스에 대한 상세한 기록을 유지할 수 있습니다. 결론적으로 TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V는 반도체 장치 제작을 위해 설계된 강력한 포토 esist 모델입니다. 매우 정밀한 광 장비, 이중 프로세서 제어 시스템 및 자동 가스 분사 시스템으로 구성됩니다. 박막 (Thin-Film) 구조를 디바이스의 여러 레이어로 패턴화하는 한편, 연산자가 광학 매개변수를 제어하고 프로세스의 모든 단계를 기록할 수 있도록 합니다.