판매용 중고 EBARA UFP 300A #293637224

EBARA UFP 300A 포토레시스트 (photoresist) 장비는 전자 부품의 프로토 타입, 제조 및 유지 보수에서 고품질의 결과를 달성하기 위한 다용도, 강력한 도구입니다. 이 시스템은 자외선 (UV) 을 사용하여 다양한 포토 esist 재료로 고해상도 마스킹을 달성합니다. 이 장치에는 고효율의 Quartz-Halogen 소스가 장착되어 0.5 ~ 2.5kW UV 광원을 생성하며, 광 처리량을 극대화하고, 포토레지스트 레이어를 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한 고화질 (Hid-Fidelity) 액정 이미징 머신을 사용하여 사용자가 마스크 변경 또는 디자인 변형에 대해 신속하게 예상하고 응답 할 수 있습니다. EBARA UFP-300A 도구는 또한 1/4 ~ 0.001 인치 (6-254 마이크로 미터) 범위의 다양한 해상도로 마스킹할 수있는 3 개의 교환 가능한 마스킹 헤드를 갖추고 있습니다. 이 해상도 범위 (Range of resolution) 를 통해 처리 중인 재료의 복잡한 지형 변형을 정확하게 마스킹할 수 있습니다. 마스킹 헤드는 또한 조정 가능한 진공 레벨 (vacuum-level) 컨트롤을 특징으로하여 정확도를 높이고, 최적의 광 처리량을 위한 가변 파장 필터를 제공합니다. UFP 300A 에셋에는 다양한 유형의 포토레지스트 (photoresist) 재료와 사전/사후 (post-operating) 주기가 가능한 다양한 프로세스 방법 유연성이 있습니다. 1 단계 또는 2 단계 프로세스, 초전도, 사진 또는 드라이 필름 프로세스와 같은 다양한 유형의 마스킹을 사용할 수 있습니다. 또한, 다양한 유형의 클리너, 개발자 솔루션, 접착제를 사후 작업 주기에 사용하여 원하는 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 이 모델은 유지 보수 및 조정 프로세스를 단순화하도록 설계되었습니다. 이 장비는 직관적인 컨트롤 시스템 (control system) 을 통합하여 조작자가 제어판의 몇 가지 간단한 터치로 노출 시간 (exposure time) 과 강도 (intensity) 와 같은 매개변수를 조정할 수 있습니다. 또한 종합적인 진단 프로그램 (Diagnostic Program) 을 통해 장치의 잠재적인 문제를 빠르고 정확하게 파악할 수 있습니다. UFP-300A 포토레시스트 머신 (photoresist machine) 은 전자 부품 제작에서 고품질의 결과를 얻을 수 있는 강력하고 안정적인 도구입니다. 다양한 조정 가능 매개변수 (Adjustable parameters) 와 다양한 프로세스 메소드 및 클리너 (Cleaner) 를 갖춘 고밀도 프로토 타입 및 제조에 사용하는 이상적인 도구입니다.