판매용 중고 SYBRON THERMOLYNE Barnstead #9397722

SYBRON THERMOLYNE Barnstead Wafer 및 Mask Scrubber는 웨이퍼 및 photomask 표면에서 photoresist 또는 기타 잔기를 빠르고 쉽게 제거하도록 설계된 수동 스크러버입니다. "스크러버 '의 소형" 디자인' 은 기존 생산 "라인 '에 손쉽게 설치 할 수 있게 해 주며," 스테인레스' 강철 "프레임 '은 견고 한 생산 환경 을 견딜 수 있는 튼튼 한 구조 를 제공 한다. 이 장치는 또한 온수 또는 가혹한 청소 솔루션으로 인한 손상에 강한 HDPE (High Density Polyethylene) 물 탱크를 갖추고 있습니다. 스크러버는 조절 가능한 온도 (최대 250 ° F) 에서 작동하며 조절 가능한 속도는 최대 2500 rpm입니다. 또한 듀얼 10 "스크러빙 패드와 이동식 5 미크론 필터 바스켓을 포함하여 웨이퍼 및 포토 마스크를 철저하고 효율적으로 스크러빙할 수 있습니다. 타이머는 사용자가 원하는 스크러빙 지속 시간 (scrubbing duration) 을 설정하여 결과의 품질을 보장하고 오버커빙 가능성을 없앨 수 있도록 합니다. 스크러버에는 석유 제거를위한 특수 포트와 일회용 가방 콘센트가 있습니다. Thermolyne Barnstead 스크러버는 최소 유지 보수로 최고 품질의 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 물 누출을 방지하는 헤르메틱 밀봉 식품급 (hermetically-sealed food grade seal) 과 사이클 완료 중에 잔류를 빠르고 효율적으로 제거하는 고효율, 저용량 진공 시스템이 특징입니다. 중량 난방 요소 (heavy-duty heating element) 는 또한 전체 사이클 전반에 걸쳐 균일 한 온도를 제공하도록 설계되었으며 열 밀봉 손상을 피하기 위해 고효율 온도 조절 장치 (thermostat) 에 의해 보호됩니다. 전반적으로 SYBRON THERMOLYNE Barnstead Wafer 및 Mask Scrubber는 적당한 비용으로 안정적이고 효율적인 도구를 찾는 모든 반도체 생산 라인에 적합한 선택입니다. 최소한의 유지 관리 요구 사항으로 웨이퍼 (wafer) 및 포토 마스크 (photomask) 표면에서 포토 esist 및 기타 오염을 제거하도록 설계되었습니다.