판매용 중고 SSEC M3302 #9236399
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ID: 9236399
빈티지: 2005
Single wafer etcher
Main protector interrupt rating: 10,000 Amps
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 60 Hz, 30 A
2005 vintage.
SSEC M3302 웨이퍼 및 마스크 스크러버 (mask scrubber) 는 반도체 제조에 사용되는 웨이퍼 및 포토 마스크 청소 및 스크러빙을위한 정밀 장비입니다. 이 제품은 처리량 증가, 마모 손실 최소화와 동시에 높은 스크러빙 (scrubbing) 성능을 제공하도록 설계되었습니다. SSEC M 3302 웨이퍼 및 마스크 스크러버 (mask scrubber) 는 오늘날 반도체 시장의 요구에 부응하도록 설계된 최첨단 기술이 적용된 산업용 등급의 올인원 (All-in-One) 디자인을 갖추고 있습니다. 4 개의 스크러빙 모듈이 장착되어 있으며, 각각 조절 가능한 속도와 기능을 갖춘 3 개의 스크러버 (스크러빙 속도 및 패턴) 가 있습니다. 또한 프로그래밍 가능한 스크러빙 카세트 코어를 통해 빠른 설정 시간, 정확한 제어, 높은 스크러빙 효율성을 제공합니다. M3302 웨이퍼 및 마스크 스크러버의 주요 구성 요소에는 먼지 및 입자 제거 장치, 스크러빙 스테이션, 농축 배달 장비, 농축 관리 시스템, 사진 마스크 보호 장치 및 자동 웨이퍼 처리 장치가 포함됩니다. 먼지와 입자 제거 장치 (particle removal unit) 는 0.003 미크론 크기의 입자를 필터링하여 스크러빙 전에 원치 않는 모든 이물질이 제거되도록 합니다. 스크러빙 스테이션은 주어진 시간에 최대 35 개의 웨이퍼를 스크럽 할 수있는 3 개의 스크러빙 헤드로 구성됩니다. 또한, 브러쉬 압력을 조정하여 일관된 수준의 스크러빙 일관성을 보장 할 수 있습니다. 집중식 전달 도구는 정확하고 신뢰할 수 있도록 설계되었습니다. 그것 은 "와퍼 '나" 포토마스크' 재료 에 관계 없이, 기판 의 폐기물 이나 오염 없이 우수 한 청소 성능 을 제공 하는 "울트라 소닉 '농축" 에셋' 을 갖추고 있다. 또한, 집중 관리 모델 (Concentrate Management Model) 은 개별 애플리케이션마다 올바른 양의 농축액이 전달되도록 보장합니다. 포토 마스크 (photomask) 보호 장비는 스크러빙 과정에서 포토 마스크 (photomask) 를 보호하는 전자기 차폐 공정 (electromagnetic shielding process) 을 사용하여 스크러빙 과정에서 이물질이나 막대 입자를 방지합니다. 마지막으로, 자동 웨이퍼 처리 시스템 (Automated Wafer Handling System) 은 처리량 및 신뢰성을 높여 수동 처리 중 발생할 수 있는 웨이퍼 스크래치의 위험을 최소화합니다. 최대 청결 및 오염 방지를 위해 청정실 환경에서 M 3302 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 스크러버 (mask scrubber) 를 처리해야합니다. 또한, 부당 한 청소 가 "스크러빙 '효율성 을 저하 시킬 수 있기 때문 에, 부대 도 정기적 으로 유지 되어야 한다.
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