판매용 중고 SSEC M3302 #9229623

SSEC M3302는 고성능 웨이퍼 및 마스크 스크러버입니다. 이 기계는 반도체 웨이퍼 및 포토 마스크 기판에서 표면 미립자를 정확하고 효율적으로 제거하도록 설계되었습니다. SSEC M 3302는 고압 제트기와 진공 추출의 조합을 활용하여 우수한 청소를 제공 할 수 있습니다. 기계 "탱크 '는 화학 물질 을 저항 하기 위하여" 스테인레스 스틸' 로 전적 으로 만들어져 있으며, 손쉬운 청소 와 정비 를 할 수 있게 해 준다. M3302에는 다양한 유형의 웨이퍼 (wafer) 와 포토 마스크 (photomask) 기판을 수용하도록 쉽게 조정 할 수있는 가변 속도 컨베이어가 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 재료 유형에 관계없이 일관된 청소 프로세스가 가능합니다. 청소 과정 내에서, M 3302는 브러시 스크러빙 (brush scrubbing) 과 물 또는 화학제의 고압 제트를 표면 미립자를 조사하는 조합을 사용한다. 이 방법을 사용하여 SSEC M3302 는 가장 어려운 Clean Room 애플리케이션에도 철저한 청소 기능을 제공합니다. SSEC M 3302는 프로세스 내에서 사용되는 클리닝 미디어의 농도에 대한 정확한 제어를 위해 조정 가능한 유속 밸브 (flow rate valve) 를 갖추고 있습니다. 최적의 품질 결과를 얻기 위해, 흐름 속도를 조정하여 클리닝 중인 표면 면적에 대한 클리닝 미디어 (cleaning media) 의 일관된 비율을 유지할 수 있습니다. 또한, 가혹한 클리닝 솔루션과 소프트 클리닝 솔루션 사이를 전환하려는 연산자의 경우, M3302에는 사전 프로그래밍 가능한 설정이 제공됩니다. 따라서 설정을 수동으로 조정하지 않고도, 한 클리닝 솔루션에서 다른 클리닝 솔루션으로 빠르고, 쉽고, 안전하게 변경할 수 있습니다. 고품질 결과를 추가로 보장하기 위해 M 3302 (M 3302) 는 청소하는 동안 비정상적인 진동을 감지하도록 설계된 동적 진동 감지 시스템을 갖추고 있습니다. 만일 진동 이 검출 된다면, 기계 는 즉시 "웨이퍼 '나" 포토마스크' 를 청소 하는 일 에 손상 을 입히지 않게 될 것 이다. SSEC M3302는 반도체 웨이퍼와 포토 마스크 기판을 청소하는 빠르고 효율적인 방법을 제공하도록 설계되었습니다. 청소 솔루션과 강력한 브러싱 (brushing) 및 고압 제트 (high-pressure) 시스템을 정확하게 제어하는 SSEC M 3302는 가장 거친 청소 실 어플리케이션에도 품질 청소를 보장합니다. 또한, 조절 가능한 유속 (flow rate) 과 사전 프로그래밍 가능한 설정 (pre-programmable settings) 을 갖춘 이 기계는 다양한 방법으로 여러 기판을 청소하는 빠르고 간단한 수단을 제공합니다.