판매용 중고 K&S 971 #9077085

K&S 971은 반도체 제작 산업을 위해 설계된 웨이퍼 및 마스크 스크러버입니다. 그것 은 "웨이퍼 '의 표면 을 청소 하고 제조 공정 중 에" 마스크' 를 하여 미세 한 입자 와 오염 물질 이 없도록 하는 데 사용 된다. 971 (971) 은 기계적 동요 (mechanical agitation) 와 유체 매개 (fluid-borne) 물질의 조합을 사용하여 웨이퍼와 마스크의 표면에서 입자를 제거합니다. K&S 971은 DC 모터로 구동되는 기계식 스크러빙 액션을 사용합니다. 이 모터 (motor) 는 최대 500 RPM의 진동 세트를 생성하며, 진폭은 0.5mm이며, 처리되는 재료의 표면에 큰 기계적 마모가 발생합니다. 스크러빙 액션 (scrubbing action) 은 특정 유형의 유체를 사용하여 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 표면에 남아있을 수있는 미세한 오염 물질을 분해하고 플러시하는 통합 화학 청소 장비로 증강됩니다. 또한 971 에는 조정 가능한 압력 (Adjustable Pressure) 및 노즐 제어 (Nozzle Control) 기능이 포함되어 있어 최적의 청소 동작을 달성하기 위해 정확한 스크러빙 압력 및 노즐 각도를 설정할 수 있습니다. 이것 은 "스크러빙 '작용 이" 입자' 를 제거 할 수 있을 만큼 강력 하면서도, 지나치게 연마력 이 강하고 아래 에 있는 물질 에 손상 을 입히지 않도록 한다. K&S 971 (K&S 971) 에는 스크러빙 유체에서 고체 및 에어로졸 입자를 모두 제거 할 수있는 자체 함유 여과 시스템이 포함되어 있으므로, 유체가 깨끗하게 유지되고 입자가 제거되기 전에 클리닝 유닛으로 다시 순환됩니다. 스크러빙 (scrubbing) 과정에서 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 에서 제거 된 입자를 수집하고 저장하는 재료 복구 기계도 있습니다. 이 복구 도구는 스크러빙 과정에서 발생하는 폐기물을 줄이는 데 중요합니다. 또한 971 은 자동화된 챔버 클린 에셋 (chamber clean asset) 을 갖추고 있어 프로세스가 완료된 후 스크러빙 챔버 (scrubbing chamber) 를 쉽고 빠르게 정리할 수 있습니다. 이 모형은 챔버 벽 (chamber walls) 에 남은 입자를 플러시하여 스크러빙 프로세스 (scrubbing process) 동안 입자가 남지 않도록 합니다. 또한, K&S 971은 또한 수밀 물개 (water-tight seal) 와 같은 광범위한 안전 기능을 가지고 있으며, 이는 액체가 장비를 탈출하지 못하게하며 스크러빙 과정에서 생성 된 위험한 증기나 스프레이로부터 운영자를 보호합니다. 전체적으로 971은 반도체 제조 공정을 위해 설계된 효율적이고 효과적인 스크러버입니다. 그것 은 "와퍼 '와" 마스크' 의 표면 이 문지르기 과정 중 에 깨끗 하고 오염 물질 로부터 자유 롭게 유지 되는 통합 된 기계적· 화학적 작용 을 특징 으로 한다. 또한, 조절 가능한 압력 및 노즐 제어 기능, 자체 포함 여과 시스템, 재료 복구 장치 (material recovery unit) 및 자동 챔버 클리닝 머신 (automated chamber cleaning machine) 이 모두 함께 작동하여 스크러빙 성능을 극대화하면서 운영자의 안전을 보장합니다.