판매용 중고 GNBS NSGB1.5K #9373149

GNBS NSGB1.5K는 반도체 제조를위한 리소그래피 공정 (lithography process) 전후에 웨이퍼 및 마스크 표면의 청소 과정을 돕는 웨이퍼 & 마스크 스크러버입니다. 첨단 "압축 공기 '기술을 활용해 청소 공정의 효능과 정확성을 만들어낸다. 정상 작동 중 가변 속도 송풍기 (variable speed blower) 는 장치 상단에서 공기를 끌어내고 공기를 가압하는 데 사용됩니다. 이렇게 가압 된 공기 는 일련 의 "노즐 '판 을 통하여 독특 한 난류" 패턴' 으로 방출 되는데, 이것 은 "웨이퍼 '나" 마스크' 표면 위 에 강력 하고 부드러운 문지르기 를 한다. GNBS NSGB1.5K 는 견고한 프레임과 견고한 구성 요소로 설계되어, 클리닝 (cleaning) 간에 효율적이고 효율적으로 수행할 수 있도록 보장합니다. 스크러버 (scrubber) 는 먼지와 습도, 다양한 클리닝 솔루션 (cleaning solutions) 에 이르기까지 다양한 환경 조건의 기능으로 설계되었습니다. 이 장치는 사용하기 쉽고, 직관적인 휴먼 머신 (human-machine) 인터페이스로 제작되었으며, 신호 수준 및 pH 수준에 대한 피드백을 제공합니다. 공중에서 먼지 (dust) 와 다른 입자 (particle) 를 함정 (trap) 할 수 있는 내장 필터가 내장되어 있어 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 생산에 더 안전한 선택이 가능하다. NSGB1.5K 는 청소 과정에서 파편 수집 및 입자 제거를 위해 강력하고 유연한 2 개의 진공 시스템을 갖추고 있습니다. 한 진공은 스크러빙 중에 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크 (mask) 아래에서 파편을 모으고 다른 진공은 공기에서 입자를 수집합니다. 이러 한 두 가지 "시스템 '은" 웨이퍼' 나 "마스크 '가 먼지 없는 상태 를 유지 하고 흡입 조절" 시스템' 이 갖추어져 있어서 운전자 들 이 가장 좋은 결과 를 얻기 위하여 작업 조건 을 쉽게 조정 할 수 있다. 또한, 진공 시스템에는 자체 청소 시스템 (self-cleaning system) 이 내장되어 있어 시간이 지남에 따라 효율성을 유지할 수 있습니다. 이 전문 스크러버는 고급 기술을 사용하여 뛰어난 청소 성능을 제공합니다. 또한 특허를받은 노즐 플레이트 (nozzle plate) 디자인으로 웨이퍼 또는 마스크 표면에 층류 (laminar flow) 패턴을 생성하여 해당 영역에 균일하고 정확한 스크러빙을 생성합니다. 이를 통해 제조업체는 높은 웨이퍼 수율을 달성하고 마스크 사이클 시간을 최적화하여 수익을 높일 수 있습니다. 전반적으로 GNBS NSGB1.5K 웨이퍼 및 마스크 스크러버는 반도체 제조업체에 귀중한 자산입니다. 고급 압축 공기 (Advanced Compressed Air) 기술, 유연한 진공 시스템, 효율적인 자체 청소 기능을 통해 웨이퍼와 마스크 모두에 효과적인 표면 청소가 가능합니다.