판매용 중고 DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627543
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ID: 293627543
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2005
Wafer scrubber, 12"
(3) Load ports
Controller
(3) MFC / Pressure unit
Drive mechanism
Chamber A and B:
Process: Wafer surface clean
Chuck: Vacuum chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Rinse: DIW/ CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 3,000 rpm
Chamber C and D:
Process: Wafer backside clean
Chuck: Mechanical chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Brush: PVA Brush
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 2,400 rpm
Multi-chambers system:
Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water
Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water
Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water
Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water
Gas configuration:
Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200
Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30
Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20
Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000
Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200
Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200
Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200
Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000
Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200
Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300
Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30
Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500
Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200
Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10
Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10
ATM, EFEM: 4 wide EFEM type
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2005 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer & Mask Scrubber는 완전하게 자동화된 다중 작업 모드로 Wafer 및 Mask 표면을 청소하도록 설계되고 안정적이며 정확한 도구입니다. 이 스크러버는 고급 반도체 제조 공정의 일부로 만들어졌습니다. 스크러버 (scrubber) 는 가압, 세제가있는 뜨거운 물, 저진공 흡입을 사용하여 웨이퍼 및 마스크의 표면적을 효과적으로 긁습니다. 이 과정 은 완전 히 평평 하고 매끄러운 표면 을 조성 하여, 물리적 증기 증착 의 다음 단계 에서 완전 한 "에치 '(etch) 패턴 을 조성 한다. 또한 "스크러버 '에는 청소 중 에 지표면 에서 떨어져 나온 작은 입자 들 이 모두 제거 되도록 하기 위한 훌륭 한 정제 장비 가 들어 있다. 그렇다. 스크러버 (scrubber) 는 청소에 약 2 ~ 3 개의 파스칼 만 사용하는 강력하고 에너지 효율적인 펌프 (pump) 와 입자 제거를위한 별도의 저진공 흡입 (low-vacuum suction) 을 포함하여 광범위한 기능을 자랑합니다. 또한 "펌프 '는 청소 과정 을 더 잘 제어 하기 위한 조절 가능 한 유량 을 갖추고 있다. 또한, 스크러버 (scrubber) 는 매우 높은 정밀도 모드를 가지고 있어 장치가 웨이퍼 또는 마스크의 분 영역을 정확하게 타겟팅하고 스크러브할 수 있습니다. "스크러버 '는 또한 쉽게 조정 할 수 있고" 프로그램' 할 수 있는 모션 컨트롤 시스템 을 갖추고 있다. 이 기능을 사용하면 작업자가 작업에 대해 스크러버를 사용자 정의할 수 있습니다. 모션 제어 장치 (motion control unit) 는 또한 스크러버가 안전하고 안정적인 방식으로 사용되도록 합니다. 편의성과 정확성을 높이기 위해 DNS SS-3000-AR Wafer & Mask Scrubber에는 스크러버의 모션 컨트롤 머신과 함께 작동하는 디지털 이미지 처리 소프트웨어가 제공됩니다. 이 소프트웨어는 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크 (mask) 표면의 불완전성을 분석, 인식하여 스크러버 (scrubber) 의 설정을 빠르고 효과적으로 정리할 수 있습니다. 전반적으로 DAINIPPON SS 3000 AR 웨이퍼 & 마스크 스크러버 (AR Wafer & Mask Scrubber) 는 반도체 제조 산업을 위해 준비되는 모든 웨이퍼 또는 마스크에 고품질, 심지어 표면을 만들 수있는 안정적이고 효율적으로 설계된 도구입니다. DS-3000-AR 은 고정밀 자산, 효율적인 에너지 절감 (energy-saving) 기능, 디지털 이미지 처리 소프트웨어 등을 통해 제조 공정에 대비한 표면을 제대로 청소하고, 심지어 에칭 (etch) 할 준비가 되어 있는지 확인할 수 있습니다.
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