판매용 중고 DISCO DCS 141 #9221323

DISCO DCS 141은 집적 회로 (IC) 생산에 사용되는 웨이퍼와 마스크 모두에서 입자를 제거하도록 설계된 3 단계 청소 장치입니다. 최소 공간, 에너지, 시간 (시간) 을 활용하면서 가장 엄격한 표준을 충족할 수 있는 청결 수준을 제공합니다. DCS 141Cleaner는 세 가지 주요 단계로 구성됩니다. 화학 목욕, 기계 스크러빙 장비 및 건조 시스템. 화학욕조 (chemical bath) 는 액체 스크러빙을위한 정밀 전달 및 회수 기계를 포함하는 통합 장치입니다. 강력한 수자원 보존 에어로졸 (aerosol) 기술을 사용하여 웨이퍼 또는 마스크에서 입자와 오염물을 빠르고 효율적으로 제거합니다. 기계식 스크러빙 (scrubbing) 도구는 고급 제어 알고리즘을 사용하여 낮은 진동 및 낮은 먼지 방출 (low dust emission) 을 통해 매우 효율적인 연마 청소 프로세스를 제공합니다. 마지막으로, 건조 자산은 일련의 적외선 가열 요소를 사용하여 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 표면을 빠르고 정확하게 건조시킵니다. 기존의 스크러빙 방식과 비교하여, DCS 141Cleaner는 에너지, 공간, 시간 요구 사항 감소와 함께 최첨단 클리닝 성능을 제공합니다. 또한, 내장된 안전 (Safety) 기능은 부가 성능 및 경고 연산자의 표시를 적절히 감지할 수 있습니다. DCS 141Cleaner는 모든 표준 마스크 및 웨이퍼 크기를 처리하도록 설계되었습니다. 그것 은 "마스크 '와" 웨이퍼' 크기 의 다른 비율 에 적응 할 수 있는 모듈 식 설계 이다. 이 장치는 단 하나의 운영자만 필요하며 이동, 설치, 구성, 운영 및 유지 보수가 쉽습니다. 전반적으로 DISCO DCS 141클리너 (Cleaner) 는 효과적이고 일관된 웨이퍼 및 마스크 클리닝을 제공하는 혁신적인 장치로, 간단한 작동과 최소한의 에너지, 공간, 시간 요구 사항을 충족합니다. 고급 클리닝 모델과 안전 (Safety) 기능을 갖춘 DCS 141Cleaner는 가장 정확한 청결 표준 (Cleaness Standard) 을 충족시켜 안정적인 청소 성능을 제공하고 궁극적으로 IC 생산의 품질과 효율성을 높일 수 있습니다.