판매용 중고 YOUNG HF 50 #293829999

ID: 293829999
Surface grinding machine X: 500 mm Y: 200 mm Z: 350 mm Grinding wheel size: 225 mm x 25 mm x 51 mm Grinding motor power: 3.7 kW Actuation: hydraulic Accessories: Electric magnetic grinding wheel: 450 mm x 175 mm (5) grinding wheel flanges with grinding wheels Manual grinding wheel puller Swivel magnetic grinding wheel JUNG: 250 mm x 100 mm Precision vise BB 100 mm with swivel base Side dressing unit (2) Magnetic clamping blocks Balancing unit with balancing mandrel Coolant system Extraction unit (4) Machine feet Operating keys 1979 vintage.
YOUNG HF 50은 반도체 웨이퍼의 정확한 처리를 위해 설계된 고급적이고 다목적 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 연마 장비입니다. 최첨단 장비는 최첨단 기술, 혁신적인 기능을 활용하여 반도체 업계의 탁월한 성능과 효율성을 보장합니다. HF 50 시스템에는 견고하고 정밀도가 높은 그라인딩 장치 (grinding unit) 가 장착되어 있어 뛰어난 정확도로 초박형 웨이퍼 두께를 구현할 수 있습니다. 이 연삭 장치 (grinding unit) 는 고급 연마 재료 및 제어 공정을 사용하여 웨이퍼 표면에서 재료를 제거하여 반도체 소자 제조에 매우 균일하고 부드러운 표면을 생성합니다. 영 HF 50 (YOUNG HF 50) 장치에는 연삭 외에도 웨이퍼 표면을 더 다듬어 매우 평평하고 거울 같은 마무리를 달성 할 수있는 랩핑 모듈이 장착되어 있습니다. 이 랩핑 (lapping) 프로세스는 특수한 연마제 슬러리 및 정밀 압력 제어를 사용하여 남은 표면 불규칙성을 제거하고 전체 웨이퍼 표면에서 높은 평면을 보장합니다. 또한, HF 50 기계의 연마 능력은 처리 된 웨이퍼에 대한 최종 마무리 터치를 제공합니다. 연마 모듈은 고급 연마 패드 (advanced polishing pad) 와 슬러리 제형 (slurry formulation) 을 사용하여 반도체 장치의 성능을 최적화하는 데 중요한 뛰어난 수준의 표면 매끄러움과 깨끗함을 달성합니다. YOUNG HF 50 도구의 주요 특징 중 하나는 속도, 압력, 온도 등 프로세스 매개변수를 정확하게 조정 할 수있는 고급 제어 에셋 (Advanced Control Asset) 입니다. 이 제어 모델을 통해 연산자는 다양한 유형의 웨이퍼 (wafer) 및 재료에 대한 처리 조건을 최적화하여 최소한의 가변성을 통해 일관성, 고품질 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, HF 50 장비는 높은 처리량과 생산성을 위해 설계되었으며, 여러 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있습니다. 이 기능은 반도체 (반도체) 업계의 까다로운 생산 요건을 충족하고 장비 (장비) 의 효율적인 운영을 보장하는 데 필수적입니다. YOUNG HF 50 시스템은 또한 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 운영자에게 직관적인 처리 매개변수 제어 및 모니터링 기능을 제공합니다. 이 인터페이스를 통해 프로세스 데이터를 실시간으로 시각화 (Visualization) 할 수 있으며, 장치 성능에 대한 중요한 통찰력을 제공하며, 필요에 따라 운영자가 정보화된 의사 결정 및 조정할 수 있습니다. 결론적으로, HF 50 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 연마기는 웨이퍼 프로세싱에서 높은 정밀도와 품질을 달성하려는 반도체 제조업체를위한 최첨단 솔루션을 나타냅니다. 첨단 기술, 정밀 제어, 높은 생산성 기능을 갖춘 YOUNG HF 50 툴은 반도체 소자 생산의 혁신과 효율성을 이끌어낼 수 있습니다.
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