판매용 중고 SPEEDFAM 16B-5P-III #293795918
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ID: 293795918
빈티지: 2024
Double sided polishing machine
Process: Metal surface polishing
FUJIMI Compol 80 Slurry
Copper nickel plate
Flatness: 0.003 mm
(7) Motors
(4) Polishing pads
2024 vintage.
SPEEDFAM 16B-5P-III는 반도체 웨이퍼의 정밀 처리를 위해 설계된 고급 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 연마 장비입니다. 이 다용도 기계는 최첨단 기술을 통합하여 웨이퍼 라이닝 (Wafer Thinning) 및 표면 다듬기 (Surface Refinement) 응용 프로그램에서 고품질의 결과를 제공합니다. 혁신적인 기능과 맞춤형 구성으로, 16B-5P-III 는 뛰어난 웨이퍼 균일성 (wafer unifority) 과 편평성을 추구하는 반도체 제조 시설에 적합합니다. SPEEDFAM 16B-5P-III 의 주요 특징 중 하나는 자동 처리 기능으로, 웨이퍼 처리를 간소화하고 여러 처리 단계에서 일관된 성능을 보장합니다. 이 시스템에는 다양한 정밀 연삭, 랩핑 (lapping), 연마 모듈 (polishing module) 이 장착되어 있어 특정 재료 요구사항과 원하는 결과에 따라 프로세스 최적화를 유연하게 수행할 수 있습니다. 16B-5P-III의 그라인딩 모듈 (grinding module) 은 고급 연마재 및 정밀 그라인딩 휠을 사용하여 반도체 웨이퍼를 원하는 두께로 효율적으로 얇게 만듭니다. 이 모듈은 웨이퍼 (wafer) 표면에 손상을 최소화하면서 높은 재료 제거 속도를 제공하도록 설계되어, 두께가 균일하고 가장자리 프로파일 제어가 뛰어납니다. 또한, 이 장치는 in-situ 측정 및 피드백 메커니즘을 통합하여 두께 균일성을 모니터링하고 처리 매개변수를 실시간으로 조정하여 프로세스 제어 및 정확도를 향상시킵니다. 랩핑 모듈에서 SPEEDFAM 16B-5P-III (SPEEDFAM 16B-5P-III) 는 연마제 슬러리와 컨디셔닝 기술의 조합을 사용하여 웨이퍼 표면 평탄도를 개선하고 엄격한 차원 공차를 달성합니다. 이 기계는 여러 웨이퍼를 동시에 처리하여 처리량 및 효율성을 극대화하는 듀얼 휠 랩핑 (dual-wheel lapping) 구성을 갖추고 있습니다. 압력 (pressure), 속도 (speed) 및 슬러리 (slurry) 구성과 같은 랩 매개변수를 최적화하여이 도구는 고품질 웨이퍼 마무리를 위해 정확한 재료 제거 및 서피스 평면을 달성 할 수 있습니다. 16B-5P-III의 연마 모듈 (polishing module) 은 반도체 웨이퍼에 거울 같은 마무리를 제공하여 표면 매끄러움을 높이고 남은 표면 결함을 제거하도록 설계되었습니다. 고급 연마 패드 (Advanced Polishing Pad) 와 슬러리 (Slurry) 를 활용하여 에셋은 지표면 손상을 최소화하면서 미세한 재료를 제거하여 표면 품질과 반사 특성을 향상시킵니다. 연마 과정 은 "웨이퍼 '표면 전체 의 균일 한 제거 속도 를 보장 하기 위해 주의 깊이 조절 되어 있으며, 그 결과 일관성 있고 반복 가능 한 연마 결과 를 낳는다. 또한 SPEEDFAM 16B-5P-III 는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 시스템을 갖추고 있어 프로세스 최적화 및 품질 보장을 위한 실시간 데이터 수집/분석 기능을 제공합니다. 이 모델은 자동화된 웨이퍼 처리 시스템 (Automated Wafer Handling System) 과 통합되어 처리 모듈 간의 재료를 원활하게 전송할 수 있으며, 프로세스 변동성을 줄이고 생산성을 높일 수 있습니다. 또한, 이 장비는 간편한 운영 및 유지 관리를 위해 사용자 친화적인 인터페이스와 소프트웨어로 설계되었으며, 신속한 설치, 효율적인 운영 워크플로우를 제공합니다. 결론적으로, 16B-5P-III는 반도체 웨이퍼를위한 고급 처리 기능을 제공하는 최첨단 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 연마 시스템으로 두드러집니다. 이 장치는 정밀 제어, 자동 작동 및 맞춤형 구성을 통해 고품질 웨이퍼 (Wafer) 얇아짐, 표면 다듬기 (Surface Refinement), 뛰어난 웨이퍼 균일성을 제공하고자 하는 반도체 제조 시설에 적합합니다.
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