판매용 중고 SCHNEIDER SLG 301 #293799231
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ID: 293799231
빈티지: 2006
Spherical surface grinder
SIEMENS Sinumerik 840D
5-Axis
X-Axis travel: 660 mm
Feed rate: 0.01 - 5000 mm/min
Positioning accuracy: ± 0.001
Y-Axis travel: 0.1 mm
B-Axis Travel: ± 50°
Power supply: 24 V, 50 Hz, 8 kw, 25 A
2006 vintage.
SCHNEIDER SLG 301은 최첨단 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 연마 장비로, 반도체 제조 산업에서 탁월한 정확성과 효율성을 제공합니다. 이 고급 시스템 (Advanced System) 은 반도체 제작 프로세스의 까다로운 요구 사항을 충족시켜, 고품질의 결과를 보장하고, 웨이퍼 프로세싱의 생산성을 높이도록 설계되었습니다. SLG 301의 중심에는 혁신적인 연삭, 랩핑, 연마 기능이 있으며, 이는 뛰어난 정확성과 일관성으로 반도체 웨이퍼의 정확한 형성과 마무리를 가능하게합니다. 이 장치는 다양한 최첨단 기술 (최첨단 기술) 을 갖추고 있으며, 반도체 제조 분야에서 다양한 어플리케이션을 위한 다용도, 신뢰성 있는 솔루션입니다. 슈나이더 SLG 301 (SCHNEIDER SLG 301) 의 그라인딩 모듈은 뛰어난 정밀도와 제어로 반도체 웨이퍼에서 재료를 제거하도록 특별히 설계되었습니다. 고급 그라인딩 메커니즘은 고품질 그라인딩 휠 (grinding wheel) 과 정확한 제어 시스템 (control system) 을 사용하여 원하는 재료 제거 속도 및 서피스 마무리를 달성합니다. 이렇게 하면 "웨이퍼 '가 정확 하게 형성 되고" 랩핑' 과 연마 와 같은 후속 처리 단계 에 대비 된다. SLG 301 의 랩핑 모듈은 반도체 웨이퍼 (wafer) 에 균일 하고 평평한 표면을 제공하도록 최적화되어 품질과 성능을 더욱 향상시킵니다. "랩핑 '과정 에는 압력과 속도 가 조절 된" 웨이퍼' 에 "슬러리 '에 매달린 연마제 입자 를 사용 하는 것 이 포함 된다. 그 결과, 표면 의 불완전성 을 제거 하고, 반도체 제조 의 엄격 한 요구 조건 을 충족 시키는 매끄럽고 균일 한 표면 의 마무리 (finish) 를 만들어 낸다. 슈나이더 SLG 301 (SCHNEIDER SLG 301) 의 연마 모듈은 반도체 웨이퍼에 거울과 같은 마무리를 제공하여 웨이퍼 처리를 다음 수준으로 끌어 올립니다. 연마 과정에는 원하는 표면 품질 (surface quality) 과 거친 매개변수 (roughness parameter) 를 달성하기 위해 신중하게 선택된 특수 연마 패드와 슬러리를 사용하는 것이 포함됩니다. 연마 "파라미터 '를 정확 히 제어 함 으로써, 기계 는" 웨이퍼' 가 반도체 장치 제작 에 대한 엄격 한 표준 을 충족 시킨다. SLG 301 의 주요 특징 중 하나는 고급 제어 도구 (Advanced Control Tool) 로, 운영자가 최적의 결과를 위해 처리 매개변수를 쉽게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. 사용자에게 친숙한 인터페이스는 재료 제거율 (material removal rate), 서피스 황삭 (surface roughness), 프로세스 시간 (process time) 과 같은 주요 성능 지표에 대한 실시간 피드백을 제공하며, 운영자가 원하는 결과를 얻기 위해 필요에 따라 즉석에서 조정할 수 있습니다. 슈나이더 SLG 301 (SCHNEIDER SLG 301) 은 최첨단 처리 기능과 더불어 높은 처리량 운영을 위해 설계되었으며, 반도체 제조업체는 생산 용량과 효율성을 높일 수 있습니다. 이 자산은 강력한 구성요소와 고급 자동화 기능으로 구축되어, 다운타임을 최소화하고, 가동 시간을 극대화하며, 까다로운 제조 환경에서 지속적이고 안정적인 운영을 보장합니다. 전반적으로, SLG 301은 반도체 산업의 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 연마 시스템에 대한 새로운 표준을 설정하여 반도체 제작 프로세스에 탁월한 정밀도, 품질, 효율성을 제공합니다. 고급 기술과 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 를 갖춘 이 모델은 웨이퍼 (wafer) 처리를 혁신하고 반도체 제조업체가 경쟁력 있는 시장 환경에서 앞서갈 수 있도록 지원합니다.
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