판매용 중고 LANDIS 3SE #293827528
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ID: 293827528
빈티지: 2007
Grinding machine
Engine speed: 1200 RPM
Job head turnover: 333 RPM
Maximum stone age: 8500 RPM
Worn stone diameter: 558 mm
Shaft pulley diameter: 165 mm
Motor pulley diameter: 178.6 mm
Stone diameter: 762 mm
Power supply: 400 V, 50 Hz
2007 vintage.
랜디스 3SE (LANDIS 3SE) 는 마이크로 전자 산업을위한 고급 반도체 웨이퍼 처리 기능을 제공하기 위해 설계된 최첨단 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 연마 장비입니다. 이 시스템은 최첨단 기술을 갖추고 있으며, 다운스트림 (Downstream) 제조 공정을 위한 반도체 웨이퍼를 준비할 때 정밀도, 효율성, 신뢰성을 보장합니다. 3SE 장치의 주요 구성 요소에는 견고한 그라인딩 모듈, 다목적 랩핑 모듈, 고정밀 연마 모듈 등이 있습니다. 각 모듈은 웨이퍼 처리 (wafer processing) 워크플로우에서 특정 작업을 수행하도록 설계되어 연삭, 랩핑, 연마 단계 간에 원활하게 전환할 수 있습니다. LANDIS 3SE 머신의 그라인딩 모듈에는 고급 연마 휠 (drasive wheel) 과 고속 스핀들 장치 (spindle unit) 가 장착되어 있어 빠른 재료 제거 및 정확한 웨이퍼 얇아집니다. 이 모듈은 지표면 손상 (subsurface damage) 을 최소화하면서 초평면 웨이퍼 (wafer) 표면을 달성하여 처리된 웨이퍼의 고품질 및 균일성을 보장합니다. 이 도구의 랩핑 모듈은 반도체 웨이퍼를 위한 고정밀 재료 제거 및 서피스 마무리 (surface finishing) 기능을 제공하도록 설계되었습니다. 이 모듈은 연마식 슬러리 (slurry) 와 회전 랩핑 (rotating lapping) 플레이트의 조합을 사용하여 처리된 웨이퍼에서 뛰어난 평탄성과 표면 매끄러움을 얻을 수 있으며, 이는 엄격한 치수 제어 및 표면 품질이 필요한 응용 프로그램에 적합합니다. 3SE 에셋의 연마 모듈은 반도체 웨이퍼에 우수한 표면 마무리 및 연마 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 고급 연마 패드 (polishing pad), 슬러리 전달 시스템 (slurry delivery system) 및 압력 제어 메커니즘을 갖춘 이 모듈은 나노미터 이하의 거친 값으로 거울 같은 표면 마무리를 달성하여 고급 반도체 장치 제작 프로세스의 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다. LANDIS 3SE 모델은 핵심 프로세싱 모듈 외에도 정교한 제어 장비로, 정확한 프로세스 매개변수 최적화, 실시간 모니터링, 데이터 로깅 (데이터 로깅) 을 통해 품질 보증 및 프로세스 추적 기능을 제공합니다. 이 시스템에는 자동 웨이퍼 처리 장치, 로봇 로딩 및 언로드 시스템, 웨이퍼 매핑 (wafer mapping) 기능이 장착되어 있어 처리량이 높고 운영 효율성이 뛰어납니다. 3SE 장치는 클리닝 스테이션 (Cleaning Station), 도량형 시스템 (Metrology System), 검사 도구 (Inspection Tools) 와 같은 추가 프로세스 모듈을 쉽게 통합하여 특정 애플리케이션 요구 사항에 맞춘 포괄적인 웨이퍼 처리 솔루션을 만들 수 있도록 모듈식 아키텍처로 설계되었습니다. 이 기계는 또한 사용자 친화적 인 인터페이스, 직관적인 소프트웨어 제어, 원격 모니터링 기능으로 제작되어 반도체 제조 설비의 작동 및 유지보수 편의성을 보장합니다. 전반적으로 LANDIS 3SE 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 다듬기 도구는 반도체 웨이퍼 프로세싱을위한 최첨단 솔루션을 나타내며, 광범위한 마이크로 일렉트로닉스 어플리케이션에서 사용되는 고품질 웨이퍼 생산을위한 고급 기능, 고밀도, 신뢰성을 제공합니다.
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