판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CMP 5201 #9233177

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ID: 9233177
빈티지: 2003
System With heat exchanger Load cassette type: Ergo loader standard cassette Controller / Computer type: Windows XP Polish process: Glass & SU8 for MEMS devices Polish heads: (4) Titan II Heads (3) Platens No inline metrology Wafer scrubber: Mesa type scrubber Spray type: Brush Slurry feed: Bulk feed Pad conditioner arm type: DF3 Slurry flow controller type: Capillary No endpoint detector No ISRM Balanceworks upper pneumatic upgraded CE-Marked Power supply: 208V, 3-Ph, 50/60Hz 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CMP 5201은 고도로 발전된 정밀 설계 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 연마 장비입니다. 이 제품은 다양한 Wafer 크기와 Type 애플리케이션에 최적의 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템에는 LPCS (Advanced Lapping Plate Control Unit) 가 장착되어 있어 전체 그라인딩 프로세스를 정확하게 조정하고 표면 텍스처를 제어할 수 있습니다. LPCS (LPCS) 는 랩핑 플레이트와 웨이퍼 사이의 압력을 정확하게 제어하여 정확도를 높이고 표면 품질을 향상시킵니다. 또한 사용자는 다양한 그라인딩 레시피 (grinding recipe) 를 실행하여 공정의 생산량을 극대화하고, 간격을 줄이고, 원하는 표면 마무리를 달성 할 수 있습니다. AMAT CMP 5201은 과립 또는 유체 서스펜션에서 다양한 연마 재료를 적재 할 수 있습니다. 또한 다양한 용액과 광저장제 (photoresist) 와 같은 화합물을 적용하는 데 사용될 수 있습니다. 이러한 솔루션은 레이어의 웨이퍼 (Wafer) 에 적용될 수 있으며, 용지 (Wafer) 서피스를 찾은 후 프로파일에 따라 수정하고 연마할 수 있습니다. 두 개의 연삭 헤드로, 기계는 사전 연삭, 거친 연삭 및 미세 연삭과 같은 다단계 연삭 작업을 더욱 용이하게합니다. 이 도구에는 그라인딩 속도의 향상된 변조 제어를 제공하는 독립 모터 컨트롤러 (independent motor controller) 도 있습니다. 이렇게 하면 더 정확하고 일관성 있는 그라인딩 (grinding) 을 통해 뛰어난 성능과 더 큰 수확량을 얻을 수 있습니다. 손쉬운 프로그램 선택 (program selection) 메뉴를 사용하면 최소한의 퓨즈로 프로세스 매개변수를 빠르게 조정하고 세밀하게 조정할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS CMP 5201의 많은 기능이 결합되어 웨이퍼 처리 작업에 이상적인 솔루션이 됩니다. 광범위한 애플리케이션에 적합하며, 최상의 품질의 결과를 얻을 수 있습니다. 이 자산은 저소음 가동 (low noise operation) 을 위해 설계되었으며, 이는 환경 오염의 가능성을 줄이고 더 즐거운 작업 경험을 제공합니다. CMP 5201은 고정밀 웨이퍼 그라인딩, 랩핑 및 연마 작업에 적합한 선택 사항입니다.
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