판매용 중고 VEECO / IONTECH Spector #9033598

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ID: 9033598
Ion beam deposition system Pumping system: CTI-400 On Board cryo pump Leybold mechanical pump Chamber: vertical split bell jar, 42" diameter x 36" high Target holder: 4 each 10 x 14" diameter Sourcer 32 Ion Beam system manager (1) RF12 cm ion beam assist source (1) RF16 cam ion beam deposition source (2) RF neutralizers (2) Gas flow controllers.
VEECO/IONTECH Spector는 균일 한 박막 및 코팅 생산능력으로 유명한 고성능 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 반도체, 메모리, 광전자, 표면 공학, 연구 및 개발, 산업 응용 등 다양한 산업에 적합한 자체 포함 진공 증착 도구입니다. 코어에서 VEECO 스펙터 (VEECO Spector) 는 고급 모션 제어 및 자동화 기술과 결합 된 여러 전자 빔 건 (multi-magnetron) 을 사용하여 고품질 코팅을 효율적으로 생성합니다. 이 총은 단일 챔버 (chamber) 설계에 통합되어 수작업을 최소화하면서 빠르고 간편한 타겟 로딩 및 언로딩을 지원합니다. 고효율 모션 컨트롤 (motion control) 기술은 균일한 입자 분배 및 증착률을 보장하는 반면, 정교한 진공 (vacuum) 기술은 결함이 낮은 높은 처리 속도를 제공합니다. 이 장치는 또한 다양한 프로세스 제어/분석 도구를 갖추고 있으며, 이를 통해 사용자는 레이어 매개변수를 실시간으로 모니터링/조정할 수 있습니다. 이러한 도구에는 배치 프로세스의 효율적인 모니터링 및 분석을위한 데이터 로깅 및 분석 도구인 SENTech 등의 소프트웨어와 LMS (Layer Mapping Machine) 및 ROM (Range of Motion) 도구가 포함됩니다. 또한 IONTECH Spector에는 로드 잠금 (Load Lock) 도구가 장착되어 있어 진공을 끊지 않고 샘플을 에셋 안팎으로 전송하여 코팅 프로세스의 시간을 절약할 수 있습니다. 마지막으로, 스펙터 (Spector) 는 평판 패널 (flat panel) 을 포함한 다양한 기판을 거의 모든 모양 또는 윤곽에 제공 할 수있는 반면, 정교한 가스 처리는 정밀한 가스 전달 및 제어를 가능하게하여 필름 균일성과 결함 성능을 향상시킵니다. 이 프로세스 제어 (process control) 기능을 통해 사용자는 거의 완벽한 균일성을 지닌 필름 레이어를 정확하고 안정적으로 제작할 수 있으며, 또한 높은 수준의 프로세스 최적화 및 반복 기능을 사용할 수 있습니다. 전반적으로 VEECO/IONTECH 스펙터 (VEECO/IONTECH Spector) 는 고급 코팅 생산을위한 인상적인 기능과 기능을 제공하여 다양한 산업에 이상적인 선택입니다. 강력한 총과 모션 컨트롤 (Motion Control) 기술은 안정적이고 균일한 증착률을 보장하는 반면, 정교한 프로세스 제어 및 분석 도구를 통해 정확하고 반복 가능한 박막 레이어를 제공합니다. 또한, 거의 모든 형태의 기판을 처리 할 수있는 능력은 수많은 생산 및 연구 응용 프로그램 (production and research application) 에 완벽하게 적합합니다.
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