판매용 중고 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830 #9274362

VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830은 열 및 직류 마그네트론 스퍼터 증착 프로세스를 모두 수행 할 수있는 강력한 스퍼터링 장비입니다. 이 다목적 시스템은 광학 활성 테라 헤르츠 필름, 금속 및 반도체 필름, 고급 광학 부품 코팅, 전기 부품 등 다양한 응용 분야에 이상적입니다. TEL MBB 830의 디자인은 안전하고 안정적인 작동을 보장합니다. "스퍼터링 '과정 을 보호 하고 함유 하기 위하여" 플루오린화' 탄소 원천 혈관 을 사용 하거나 함유 하지 않고 사용 할 수 있는 독특 한 "세라믹 '격납관 이 포함 되어 있다. 최적의 안전을 위해 장치에 여러 안전 기능이 포함되어 있습니다. VARIAN MBB 830에는 비상 정지/리셋 버튼, 인클로저 인터 록, 온도 감지 장치 및 과압 분리 밸브가 장착되어 있습니다. MBB 830은 뷰포트와 12 위치 웨이퍼 카세트와 함께 표준 '로드 잠금' 스퍼터링 챔버를 사용합니다. 이 디자인은 대규모 영화 증착과 소규모 연구 및 개발 목적에 이상적입니다. 또한 TOKYO ELECTRON MBB 830은 비 반응성 (예: Al 및 Si) 및 반응성 (예: 산화물) 스퍼터링 가스와 함께 작업하여 최대 필름 정확성과 균일 성을 달성 할 수 있습니다. 이 시스템에는 고급 사용자 친화적 제어 콘솔도 함께 제공됩니다. 이렇게 하면 사용자가 배치 작업을 프로그래밍하고 실시간으로 진행 상황을 모니터링할 수 있습니다. 콘솔에는 웨이퍼 전송 (wafer transfer), 챔버 압력 자동화 (automation of chamber pressure) 및 증착 정확도 및 반복성 향상을 위해 반응성 가스가 추가 될 수있는 활성 패키지가 장착되어 있습니다. VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830에는 우수한 증착 결과를 달성하기위한 다양한 공정 도구 및 재료도 포함되어 있습니다. 여기에는 기계식 파워 피더, 저온 포스트 어닐링 챔버 (low-temper post-annealing chamber) 및 고온 베이킹 챔버 (baking chamber) 가 포함되며, 모두 특정 프로젝트 요구에 맞게 맞춤 조정할 수 있습니다. 또한, 이 도구는 평면, 회전, 선형 소스와 같은 수많은 스퍼터링 소스를 사용할 수 있습니다. 간단히 말해, TEL MBB 830은 안정적이고 유연한 스퍼터링 (sputtering) 자산으로, 최고의 정확성과 반복성을 위해 다양한 안전 기능과 프로세스 도구를 갖추고 있습니다. 대규모 광학 영화 제작에서 소규모 연구 개발 프로젝트 (small-scale research and development project) 에 이르기까지 다양한 응용 분야에 이상적입니다.