판매용 중고 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 HT #77414

VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 HT Sputtering Equipment는 다용도 및 고성능 박막 증착 시스템으로, 진공 박막 응용을위한 안정적이고 비용 효율적인 솔루션으로 설계되었습니다. 광범위한 프로세스 기능을 제공하는 이 장치는 광학, 반도체, 박막 (Thin-film) 전자 광학 제조 등 다양한 애플리케이션에 적합합니다. TEL MB2-730 HT는 바닥 장착 6 캐비티 마그네트론 스퍼터링 챔버를 특징으로하며 최대 기판 크기는 150mm x 150mm입니다. 챔버에는 375kHz RF 발전기와 4 개의 독립적으로 제어되는 개별적으로 펌핑 된 가스 분사 라인이 장착되어 있어 짧은 처리 시간에 고품질의 박막 증착이 가능합니다. VARIAN MB2-730 HT는 3 개의 목표 보유자에 최대 3 개의 대상 재료를 수용 할 수 있으며 단일 웨이퍼 또는 다중 웨이퍼 (한 번에 최대 6 개의 웨이퍼) 를 처리 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MB2-730 HT는 또한 유전체 준수를 개선하기위한 이온 빔 보조 증착 (IBAD), 프로세스 개선을위한 집중 이온 빔 에칭, 정확하고 일관된 박막 증착을위한 폐쇄 루프 온도 및 압력 제어 등 다양한 고급 보호 및 프로세스 최적화 기능을 갖추고 있습니다. 이 기계는 또한 최첨단 진단 및 제어 기능 (예: 자동 종단점 감지, 프로세스 모니터링, 고급 도량형 기능) 을 갖추고 있으며, 사용자가 박막 프로세스를 정확하게 모니터링하고 제어하여 연장 기간 동안 더 높은 품질의 필름 증착을 달성할 수 있습니다. MB2-730 HT는 온도 범위가 최대 750 ° C, 작동 압력 최대 10Pa, 증착율 최대 10nm/min으로 광범위한 증착 프로파일을 생성 할 수 있습니다. 이 도구는 단일 파장 작동을 위해 설계되어 프로세스 매개변수의 미세 튜닝을 위해 F4 수정 가능하며, 분광 타원법, 라만 분광법 (Raman spectroscopy) 및 X- 선 반사율을 포함한 다양한 도량형 도구와 호환됩니다. 결론적으로 VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 HT Sputtering Asset은 광학, 반도체 및 박막 전기 광학 제조를 포함한 다양한 프로세스에 최적화되어 매우 다재다능하고 비용 효율적인 박하 모델입니다. 최첨단 진단 및 제어 기능 (IBAD, 에칭, 폐쇄 루프 온도, 압력 제어 등 고급 프로세스 최적화 기능 포함) 을 갖추고 있습니다. TEL MB2-730 HT (TEL MB2-730 HT) 는 광범위한 증착 프로파일을 생산할 수 있으며, 다양한 도량형 툴과 호환되며, 안정적이고 효율적인 스퍼터링 장비를 찾는 사람들에게 이상적인 선택입니다.