판매용 중고 VARIAN M 2000 #9246300

VARIAN M 2000은 다양한 연구 및 산업 응용 분야에 사용되는 최첨단 기술 장비입니다. 이 "스퍼터링 '장치 는" 필름' 이나 전극 의 정확 한 증착 을 위한 조정 가능 목표물 면적 을 갖춘 최대한의 효율성 을 위해 설계 된 강력 한 "스퍼터링 '장치 이다. 이 스퍼터링 유닛은 적절한 가스 (일반적으로 아르곤 (Argon)) 를 사용하여 작동하며, 이는 고전압 바이어스의 첨가를 통해 이온화됩니다. 그런 다음, "마그네트론 '은 표면 을 수동화 시키거나" 코우트' 를 입히기 위하여, 목표 영역 을 폭격 하는 빠르고 집중적 인 이온 입자 의 흐름 을 투영 한다. 기판은 회전 척 (rotating chuck) 에 장착되며, 플라즈마 공정 응용 프로그램에 사용하도록 특별히 설계된 대상 홀더 (target-holder) 영역의 생산 스케일 코팅을위한 대형 챔버로 구성됩니다. 기계의 주요 구성 요소에는 유도 코일, 변압기, 이온 소스, RF 생성기, 배기 도구 및 이온 전류 모니터가 포함됩니다. 이 모든 부품 들 은 기판 "코우팅 '공정 을 완전 히 제어 하기 위하여 기계 에 집적 된다. 다른 시스템과 비교하여 VARIAN M2 000의 주요 장점에는 조정 가능한 전원이 포함되어 있으며, 증착 매개변수 (deposition parameter) 를 더 잘 조정할 수 있습니다. 운영 장애 및 생산 처리량 증가의 위험이 낮은 안정적인 운영; 다양한 기판을 수용하는 다양한 챔버 크기. M 2000 의 전반적인 설계는 단순하고 견고하며, 높은 프로세스의 품질과 강력한 운영을 제공합니다. 이 자산은 의료, 자동차, 산업 및 반도체 산업에서 다양한 잠재적 응용 분야를 보유하고 있습니다. 다양한 응용 분야에는 표면에 물리적, 전기적 특성, 박막 증착, 고급 디스플레이 제조 등이 있습니다. 결론적으로, M2 000 스퍼터링 (Sputtering) 모델은 많은 어플리케이션을 위해 설계된 고급적이고 효율적인 솔루션으로, 높은 공정 품질로 안정적이고 균일한 코팅을 제공할 수 있습니다. 이 "에너지 '는 대부분 의 기판 에 적합 한" 에너지' 와 다양 한 "챔버 '크기 를 가지고 있다는 유익 이 있으며, 튼튼 한 작동 은 생산 처리량 을 극대화 하는 데 도움 이 된다.