판매용 중고 VARIAN 3290 #9075492

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ID: 9075492
웨이퍼 크기: 6"
Sputtering system, 6" (3) Target assemblies: Conmag II Station 1: Heated etch with AE RF-10 power supplies Station 2: Heater table with conmag II Station 3: Heater table with conmag II Station 4: Heater table with conmag II (4) Temperature controllers: Eurotherm 818 Controller: Fluke 1722A modified with flash drive and floppy drive Multimeter: HP 3438A Ferrofluidic transfer plate feedthru grade (3) Ferrofluidic shutter feedtrhu upgrades Ion gauge controller: Varian 880 Remote power supply panel Digital readout Etch matching unit controller with digital readout meters RF RWD and REFL remote meter panel Cryo pump: CTI CT-8 with SC compressor Dry scroll mechanical pump: no Power supplies: Target 1: Inner 2.5kW, outer 12kW Target 2: Inner 2.5kW, outer 12kW Target 3: Inner 2.5kW, outer 12kW Currently warehoused 1989 vintage.
VARIAN 3290 스퍼터링 시스템은 박막 증착 프로세스에 사용되는 고성능 장비입니다. 그것의 주요 목적은 다양한 응용 분야를 위해 금속, 산화물, 반도체의 박막 (thin film) 을 다양한 기판에 배치하는 것입니다. 3290은 높은 수준의 공정 제어 (process control) 와 다양한 기능을 사용하여 집적 회로, 평면 패널 디스플레이, MEMS 및 태양 전지 어플리케이션을위한 고품질의 박막 (thin film) 을 생산합니다. 음극, 조절 가능한 플래튼, 조절 가능한 플럭스 소스 (flux-source) 의 세 가지 별개의 독립적 인 매개 변수를 통해이를 달성합니다. 음극은 기판에 증착 될 재료의 공급원입니다. 이것 은 일반적 으로 "알루미늄 '," 팔라듐' 또는 금 과 같은 철사 이지만, "크롬 '과 같은 다른 비활성 물질 도 이용 될 수 있다. 전선은 기판에 스퍼터링되어, 조절 가능한 플래튼에 배치 될 수있다. 조정 가능한 플래튼 (platen) 은 기판의 각도와 기판의 균일 한 증착에 대한 회전을 제어 할 수 있습니다. 조정 가능한 플럭스 소스 (flux source) 는 증착 과정을 방해 할 수있는 모든 이온으로부터 균일 한 차폐를 제공합니다. 플럭스 소스 (flux source) 는 또한 플래튼에 전자를 제공함으로써 약간의 배경 중화를 제공합니다. 바리안 3290 (VARIAN 3290) 은 또한 다양한 커스터마이징 가능한 증착 매개변수를 가지고 있으므로 다양한 두께로 다양한 재료를 배치 할 수 있습니다. 이러한 매개변수는 증착 속도, 전압, 기판 온도 및 가스 유속 (gas flow rate) 선택을 통해 뛰어난 유연성을 제공합니다. 3290 스퍼터링 시스템은 안정적이고 효율성이 높으며, 높은 반복성과 재현성을 지닌 탁월한 영화 품질을 제공합니다. 다양한 기능과 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 통해 사용자는 원하는 결과를 생성해야 하는 제어 (control) 를 얻을 수 있습니다. 사용자 친화적 인터페이스 (user friendly interface) 와 복잡한 설정 프로토콜 (setup protocol) 은 모든 박막 증착 프로세스에 이상적인 선택입니다.
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