판매용 중고 VARIAN 3119 #293704657

VARIAN 3119 스퍼터링 (sputtering) 장비는 비활성 또는 반응성 환경에서 기판에 고품질, 균일 한 박막 증착을위한 강력한 도구입니다. 3119 는 금속, 합금, 반도체 등 매우 다양 한 물질 을 증착 하는 데 사용 할 수 있는 진공 증착 "시스템 '이다. 그것 은 여러 가지 자기장 감금 "시스템 '과 정밀 하게 제어 된 두께 에서 재료 층 을 증착 시킬 수 있도록 정밀 한" 에너지' 처리 전자공학 을 사용 한다. 이 장치에는 스테인리스 스틸 베이스가있는 대피 챔버 (evacuated chamber) 가 포함되어 있으며, 혁신적인 자기장 감금 기술을 사용하여 매우 균일하고 부드러운 재료 층을 생산합니다. 이 기계 에는 "스퍼터링 '을 위한 전자 빔' 원 이 들어 있는데, 이것 은 물질 층 이" 코우팅 '될 기판 에 형성 되게 하는 데 사용 된다. 전자 빔 (electron beam) 과 스퍼터 증착 (sputter deposition) 은 제어 온도, 제어 된 에너지 증착 속도 및 전자 빔과 기판 사이의 제어 거리에서 발생합니다. 전자 빔 소스는 기판에서 빠르고 균일 한 코팅을 제공합니다. 전자 빔 소스 외에도 VARIAN 3119 스퍼터링 도구에는 반응성 가스 스퍼터링 및 비 반응성 가스 스퍼터링 소스가 있습니다. 이것은 자산이 비활성 (inert) 및 반응성 (reactive) 조건에서 사용되어 결과 박막 (thin film) 의 다른 전기 특성 및/또는 화학 성분을 제공 할 수 있기 때문에 중요합니다. 이 모델에는 또한 증착 과정 (예: 압력, 온도, 증착률, 재료 두께) 을 모니터링하기위한 많은 센서와 트랜스듀서가 포함되어 있습니다. 장비는 매우 높은 진공 챔버 (vacuum chamber) 로 둘러싸여 있으며, 밀봉되고 열적으로 절연되어 10-8 토르 (torr) 정도의 압력으로 증착됩니다. 이 챔버에는 자동 가스 전달 시스템 (automated gas delivery system) 이 장착되어 있으며, 반응성 가스 스퍼터링 및 비 반응성 가스 스퍼터링을위한 가스 공급을 제공합니다. 반응성 스퍼터링 및 플라즈마 에칭 응용을위한 플라즈마 생성기도 있습니다. 이 장치 에는 또한 증착 과정 중 에 "챔버 '내부 의 온도 를 유지 하기 위한 냉각기 가 장착 되어 있다. 이 도구에는 저압 환경을 유지하기 위해 챔버에서 공기를 대피시키는 터보 분자 펌프 (turbo molecular pump) 가 포함됩니다. 마지막으로, 자산에는 데이터 로깅 및 제어 기능이 포함된 디지털 판독 (digital readout) 이 포함되어 있어 자동화된 증착 프로세스를 수행할 수 있습니다. 전체적으로, 3119 스퍼터링 모델은 균일성, 품질, 정확도가 높은 박막 (thin film) 을 만드는 강력하고 정교한 도구입니다. 다양한 고급 (advanced) 기능과 설정을 제공하여 비활성 (inert) 또는 반응성 (reactive) 환경에서 다양한 기판에서 박막 (thin film) 을 효율적이고 안정적으로 제작할 수 있습니다.