판매용 중고 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9202971
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ID: 9202971
빈티지: 1996
Sputtering system
Includes:
Computer control
CTI CRYOGENICS 9600 Compressor
Wafer loader system electrical cabinet and controls
LEYBOLD LEYVAC LV80C Vacuum pump
ADVANCED ENERGY MDX-10X Power supply
BALZERS MSU200 Power supply
HUTTINGER PFG 1600 RF Generator
DAYTON 500 lbs
Capacity overhead hoist with pendant / Rail system
Pumps:
HV Pump LC: Cryo CTI 8F onboard, VAT 2 Point
HV Pump MC: Cryo CTI 8F onboard, VAT Stepless
Fore pump LC / MC: Dryvac 50B
Meissnertrap MC cooled with LN2
Heater:
LC: QUARTZ Heater 2.0 kW
MC: QUARTZ Heater 4.0 kW
Sputtering:
Sources: Planner management AK 517 DC
Power supply: ADVANCED ENERGY Pinnacle, 12 kW
Etch:
Sources: Matchbox
Power supply: PFG 1.6 kW and HUTTINGER
(12) Tooling substrates, 6"
Handling: TECSEM With notch finder
Input: 3x400 VAC (3L+N+PE), 60 Hz, 53 A
1996 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS 502는 기판에 고정밀 박막 레이어를 배치하는 데 사용되는 High Rate RF/DC Sputtering 장비입니다. 이 시스템은 RF 및 DC 전력을 사용하여 목표 물질을 전자 폭격 같은 대기로 스퍼터링하여 균형 잡힌 ICR (Ion Cyclotron Resonance) 기술을 사용하여 효율적인 증착률을 만듭니다. UNAXIS LLS 502에는 600kHz 고주파 전원 공급 장치, 150W RF 전원 및 150kW DC 전원이 장착되어 있어 순도 필름의 손쉽고 조절 가능한 증착이 가능합니다. BALZERS LLS 502 (BALZERS LLS 502) 에는 다양한 박막 증착을 허용하는 다양한 프로세스 모드와 함께 다양한 가변 매개변수 (variable parameter) 를 제공하는 통합되고 정밀한 제어 장치가 있습니다. 첨단 소프트웨어 (Advanced Software) 는 실시간 프로세스 모니터링 및 제어를 가능하게 하며, 기계적 설계는 유지 보수 작업을 필요로 하지 않고 수십 년 동안 반복 작업을 수행할 수 있습니다. LLS 502는 고급 챔버 (chamber) 설계를 통해 최대 600 ° C의 작업 온도를 정확하게 제어할 수 있으며, 금속 및 유전체의 증착 속도 향상을위한 광범위한 프로세스 창을 제공합니다. 이를 통해 연구원들은 최적의 박막 증착을 위해 다양한 프로세스 매개 변수를 이용할 수 있습니다. 또한 가스 믹싱 머신 (gas mixing machine) 이 완전히 자동화되어 개별 가스에 대한 동시 및 누적 제어가 가능합니다. 또한 UNAXIS/BALZERS LLS 502는 사용자에게 실시간 반사계, 자동 광학 현미경, 자동 타원계, 광도 측정 기능 등 제어/모니터링 기능을 제공할 수있는 다양한 광학 구성 요소를 제공합니다. 전반적으로 UNAXIS LLS 502 (UNAXIS LLS 502) 는 증착 과정에 대한 높은 수준의 제어력을 갖춘 고품질 박막 레이어의 증착에 사용되는 안정적이고 정확한 스퍼터링 도구입니다. 정교한 설계는 반복 가능하고 정확한 증착 프로세스를 보장하며, 탁월한 프로세스 성능과 뛰어난 사용자 유연성을 제공합니다.
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