판매용 중고 ULVAC SIV-200S #293637679

ULVAC SIV-200S는 고급 반도체 장치 연구 및 개발을 위해 설계된 단일 챔버, DC 마그네트론 스퍼터링 시스템입니다. 이 장비는 유리, 도자기 및 기타 재료를 포함한 다양한 기판 재료를 통해 증착율 (최대 5 Å/sec) 의 고성능 박막 (thin film) 을 생산할 수 있습니다. SIV-200S (SIV-200S) 는 고성능 재료의 증착을 위해 내장 된 분자 빔 라인을 갖춘 고효율 가스 배달을 특징으로합니다. 듀얼 엔드 마그네트론 스퍼터링 구성은 최대 4 개의 음극과 2 개의 양극을 지원하므로 샘플 증착의 유연성이 향상됩니다. 또한, LVDT (Independent Linear Variable Differential Transformer) 를 사용하면 각 음극에서 선형 바이어스를 개별적으로 제어 할 수 있습니다. 이 기능을 사용하여 기판 재료의 균일성을 향상시키고 충전 효과를 줄일 수 있습니다. 시스템의 퍼니스 모듈에는 다양한 고온 온도의 온도 난방 (HOTs) 과 핫플레이트 (hot plate) 가 장착되어 있어 온도에 민감한 재료를 코팅하는 데 적합합니다. 핫 플레이트의 온도 범위는 최대 1000 ° C이며, 고도로 정확한 온도 모니터링을 위해 열전대 (Thermocouple) 부착 옵션을 사용할 수 있습니다. 이 장치에는 에칭 및 증착 과정에서 이온 폭격 빈도, 크기 및 지속 시간을 제어하기위한 고급 RF 발전기 (advanced RF generator) 가 포함되어 있습니다. ULVAC SIV-200S 는 다양한 실험에 적응력이 뛰어나며, 다양한 기능을 전체 기능 제어 소프트웨어 (full-function control software) 제품군으로 조정할 수 있습니다. 여기에는 여러 작업을 프로그래밍하고, 최대 4 개의 웨이퍼에서 샘플 분석을 실시간으로 모니터하며, 특정 박막 사양에 대해 사용 가능한 다양한 레시피 (레시피) 중에서 선택할 수 있습니다. 전반적으로, SIV-200S는 고급 반도체 연구 및 개발의 요구 사항을 충족하도록 설계된 안정적이고 사용하기 쉬운 기계입니다. 이 도구의 개별 음극 제어 및 가변 주파수 RF 소스를 지원하는 기능은 탁월한 필름 균일성 (film unifority), 낮은 충전 (low charging), 높은 증착 속도 (high rate of deposition) 등 다양한 박막 효과를 만들 수 있습니다.