판매용 중고 ULVAC EI-5 #293826440
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ID: 293826440
웨이퍼 크기: 2"-8"
빈티지: 2006
E-Beam evaporator, 2"-8"
Substrate:
Material: Si wafer, Si + Mo sintered substrate, Glass, GaN, GaAs
Size: φ2"-8"
Vacuum conditions:
EC-803 Rotary vane pump, speed: 1340 / 1600 L/min
CRYO-U16P Cryo pump, pumping speed (N2): 5000 L/sec
Ultimate pressure: 3 x 10^-5 Pa
Pumping time: 20 Mins to 3.0 x 10^-4 Pa
Film deposition:
E-beam evaporation 10Kw - 16Kw
Holder: Planetary
Uniformity: Within ±5 %
Substrate heating system:
Maximum substrate heater temperature: 350°C
Operation mode:
GPCS - 2700 Touch screen: PC + PLC
Evaporation system:
E-beam evaporation
Control and operation system:
MITSUBISHI Q Series PLC
PC
TFT LCD Touch panel monitor
Cooling water: 25 - 39 L/min, 20 - 28°C, 0.35 - 0.7 MPa
Back pressure ≤0.05 MPa
Compressed air: 0.4 - 0.7 MPa
Power supply: AC200 ±10%, φ3: 50Hz, 50 KVA
2006 vintage.
ULVAC EI-5는 광범위한 산업 응용 분야를 위해 설계된 스퍼터링 장비입니다. 박막 증착, 에칭 및 재료 수정에 사용됩니다. 시스템은 컨트롤러, 챔버, 증착 소스 및 관련 진공 펌프로 구성됩니다. 고급 컨트롤러 (Advanced Controller) 는 장치의 다양한 매개변수와 작동을 제어하기 위한 탁월한 정확성과 반복성을 제공합니다. 증착 공정의 정확한 제어를 위해 고급 온도 제어 (temperate control) 와 박막 (thin film) 의 균일 한 증착을위한 다양한 헤드 엔드 액세서리 (head-end accessory) 가 있습니다. 스퍼터 챔버에는 2 마그네트론, 원형 교차 분할 디자인이 있으며 알루미늄으로 만들어졌습니다. 공기 절연 인테리어와 우수한 성능 및 안전을위한 전기 절연 외부 (electrically insulated exterior) 가 있습니다. 100W 또는 200W 전원 작동을 위해 설계되었으며, 중대형 박막 증착에 적합합니다. 스퍼터 소스는 단일 사이클로 20nm 코팅 레이어의 증착을 허용하며, 높은 증착률을 위해 언로드 (unloading) 및 반로드 (semi-loaded) 모드 모두에서 작동 할 수 있습니다. EI-5 기계에는 터보 분자, 이온 및 기계 펌프를 포함한 다양한 진공 펌프가 장착되어 있습니다. 터보 분자 펌프는 10-2 Pa의 기본 압력에 도달 할 수 있으며 최대 200 L/s에 이르는 빠른 펌핑 속도가 가능합니다. "이온 '과 기계적" 펌프' 는 고속 "펌프 '가 필요 없는 응용 분야에 이상적이다. ULVAC EI-5 스퍼터링 도구에는 레시피 및 사용자 친화적 인 인터페이스로 프로그래밍 할 수있는 고급 컨트롤 패널이 있습니다. 또한 최적 온도 조절을위한 챔버 온도 센서 (chamber temperature sensor) 와 진공 상태의 입자에서 전자의 역 산란을 방지하기위한 격리 링 (containment ring) 이 있습니다. EI-5 자산은 전자 부품, 의료 임플란트, 광학 장치, 자동차 부품, 장식 코팅 등 다양한 산업 박막 응용 분야에 적합합니다. 뛰어난 정확도, 반복 가능성, 멀티 챔버 구성으로 인해 많은 애플리케이션에 이상적인 선택이 됩니다. 고급 기능과 사용자 친화적인 인터페이스를 통해 ULVAC EI-5 스퍼터링 (Sputtering) 모델은 고객의 모든 요구를 충족할 수 있습니다.
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