판매용 중고 ULVAC EBX 2000 #293792915

ULVAC EBX 2000은 고품질 박막 생산을 위해 설계된 고성능 스퍼터링 장비입니다. 금속, 반도체 재료, 유전체, 절연체, 심지어 자기 광학 재료 등 다양한 박막 재료를 만들 수 있습니다. 스퍼터링 (Sputtering) 시스템은 3 축 플랫폼에 구축되어 증착 과정의 모든 단계에서 인상적인 정밀도를 제공 할 수 있습니다. ULVAC EBX-2000은 2 개의 독립적 인 스퍼터링 건, 0.2nm 해상도의 선형 인코더, 가스 모니터를 사용하여 박막 증착의 정확성을 향상시킵니다. 이 설정을 통해 EBX 2000은 평면과 곡면 모두 일정한 속도로 스퍼터 (sputter) 할 수 있습니다. EBX-2000에는 1 x 10-8 torr 등급의 초고 진공 챔버도 있습니다. 이 진공 수준은 각 프로세스에서 고품질 필름 증착을 보장합니다. 또한 공정 중에 챔버 (chamber) 의 거의 0에 가까운 오염을 허용하여 효율적인 성장률과 기질의 최소 오염을 허용합니다. ULVAC EBX 2000에는 유연한 기판 처리가 가능한 다양한 액세서리가 장착되어 있습니다. 여기에는 탄소 필름 히터, 웨이퍼 정렬 플레이트, 로봇 전사 암 및 RF 발전기가 포함됩니다. 이러한 추가 도구를 통해 ULVAC EBX-2000은 스퍼터링 속도 (sputtering rate) 와 기판의 균일 성 (unifority) 을 향상시킬 수 있습니다. EBX 2000 은 프로세스를 올바르게, 그리고 최적의 효율성으로 완료하기 위해 다양한 모니터링 기능 (monitoring capability) 을 갖추고 있으며, 이를 통해 운영자는 증착 프로세스의 모든 측면을 모니터링하고 관리할 수 있습니다. 여기에는 프로세스 매개변수 (process parameters) 의 원격 모니터링, 라이브 카메라를 사용하여 향상된 정확도에 대한 대상 위치 그래프 적용, 배기 장치 (exhaust unit) 기능 제어, 직관적인 인터페이스로 고급 진단 (advanced diagnostics) 등이 포함됩니다. 요약하면 EBX-2000은 스퍼터링 기능의 패러다임입니다. 스퍼터링 프로세스 (sputtering process) 에서 높은 수준의 정확성과 정밀도를 제공하는 혁신적인 기능을 갖추고 있으며, 다양한 재료를 박막 증착에 사용할 수 있습니다. 초고급의 진공기 (vacuum machine), 수많은 액세서리 (accessory) 및 정확한 모니터링 기능으로, 고품질의 박막 제작에 이상적인 선택입니다.