판매용 중고 TRIKON / ELECTROTECH MS 6210 #9266539

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ID: 9266539
웨이퍼 크기: 6"
Sputtering system, 6" (2) Power supplies, 12 kW Sputter etcher CELTEK CM 13-6 RF Generator Metals used: Cu, Cr, TiW, Au, Ti (2) Targets: Cr and Ti Ar Gas Shutter CTI-CRYOGENICS SCW Cryo compressor Spare parts: PCB Gauge Power supply: 400 V, 50 Hz.
TRIKON/ELECTROTECH MS 6210 Sputtering Equipment는 다양한 박막 증착 및 분석 응용 프로그램을 위해 설계된 고정밀, 고성능 스퍼터링 시스템입니다. 이 장치는 마그네트론 스퍼터링 (magnetron sputtering) 을 사용하여 광범위한 기판 및 재료에 걸쳐 안정적이고 반복 가능한 박막 증착을 제공합니다. 이 기계는 이중 음극, 디지털 공정 가스 (Digital Process Gas) 및 압력 제어 (Pressure Control) 를 갖춘 진공 챔버와 증착 프로세스 모니터링 및 제품 품질 모니터링을위한 통합 고해상도 광학 검사 도구를 갖추고 있습니다. 이 자산은 산화물, 질화물, 금속 등 2 개의 서로 다른 필름의 동시 증착을 허용하는 독특한 이중 음극 배열을 특징으로합니다. 증착율 (Deposition Rate) 과 구성 (Composition) 은 항상 모니터링되고 최적의 성능을 위해 조정됩니다. 트리콘 MS 6210 (TRIKON MS 6210) 은 또한 조정 가능한 프로세스 가스 및 압력 제어 모델을 특징으로하며, 각 응용 프로그램에 대한 최적의 증착 조건을 제공하도록 구성 할 수 있습니다. 이 장비는 박막 증착 공정 (Thin Film Deposition Process) 을 모니터링하고 고품질 예금을 보장하기 위해 고해상도 광학으로 설계되었습니다. 광학 시스템은 고해상도 디지털 카메라와 정교한 소프트웨어 (software) 와 통합되어 증착율 (deposition rate), 컴포지션 (composition) 및 제품 품질을 자동으로 분석합니다. 또한 기판 균일성, 레이어 두께, 거칠기 및 기타 특성에 대한 자세한 분석을 허용합니다. 이 장치는 강력한 컴퓨터 제어 시스템 (computer control machine) 에서 지원되며, 각기 다른 증착 프로세스에 대한 포괄적인 레시피 라이브러리를 포함합니다. 컴퓨터 제어 도구 (computer control tool) 는 사용자 친화적이며 증착 프로세스 (deposition process) 및 데이터 입수를 정확하게 제어할 수 있도록 설계되었습니다. 레시피 및 설정은 나중에 사용할 수 있도록 쉽게 수정하고 저장할 수 있습니다. 이 자산은 박막 증착 (Thin Film Deposition) 및 분석 (Analysis) 응용 프로그램의 고성능 및 정확성을 위해 설계되었습니다. 소형 크기로 제조 생산 라인에 쉽게 설치할 수 있습니다. 이 모델은 또한 보호 실드, 기판 홀더, 스퍼터 가드, 먼지 수집 시스템 등 다양한 액세서리 및 구성 요소와 호환됩니다. ELECTROTECH MS-6210 Sputtering Equipment는 박막 증착 및 분석 응용 프로그램에 이상적인 선택입니다. 높은 정밀 증착율, 컴포지션 제어 및 고해상도 광학은 안정적이고 반복 가능한 결과를 제공합니다. 이 시스템의 다양한 호환 컴포넌트 (compatible component) 및 액세서리 (accessory) 는 다양한 제조 및 연구 애플리케이션을 위한 다용도 솔루션입니다.
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