판매용 중고 TOUSIMIS Samsputter IIA #141766

TOUSIMIS Samsputter IIA는 다양한 박막 증착 요구를 위해 설계된 다양한 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 2 개의 스퍼터 건 (Sputter Gun) 을 결합하며, 이온 빔을 지시하는 동안 다양한 재료를 스퍼터링 할 수 있습니다. 이렇게 하면 퇴적 된 "필름 '의 두께 와 성분 을 정확 히 제어 할 수 있다. Samsputter IIA에는 조정 가능한 광범위한 프로세스 매개 변수가 있습니다. 작동 온도 범위는 25 ° C ~ 75 ° C이며 필름의 공정 시간은 0.1 ~ 15 초입니다. 이온 소스는 30 ~ 1000 와트의 DC 또는 RF 전원에서 작동 할 수 있으며, 다양한 증착 과정을 수용할 수있는 유연성을 제공합니다. 2 개의 스퍼터 건에는 다양한 표적이 장착되어 있으며, 알루미늄, 크롬, 실리콘, 티타늄과 같은 다양한 증착 특성 및 기질을 수용 할 수 있습니다. TOUSIMIS Samsputter IIA에는 질소, 아르곤, 메탄과 같은 가공 가스가 증착 과정에서 사용될 수있는 하부 챔버가 장착되어 있습니다. 이것은 필름의 안정성을 향상시키는 데 도움이되며, 반응성 스퍼터링 프로세스에 사용될 수있다. 삼스퍼터 IIA (Samsputter IIA) 에는 압력 게이지와 모니터를 통해 표시 할 수있는 다양한 매개변수가 있으며, 이를 통해 증착 과정을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한 다양한 가변 온도 설정 (variable temperature settings) 을 갖춘 냉각 다운 딥 (down-dip) 컨트롤러가 있어 증착 조건을 최적화할 수 있습니다. 사용자 친화적 인 제어판 외에도 다양한 안전 기능이 TOUSIMIS Samsputter IIA에 내장되어 있습니다. 컴퓨터가 사전 설정된 매개 변수 외부에서 작동하는 경우 응급 정지 (Emergency Stop) 버튼, 전원 장애 보호 (Power Failure Protection) 및 이온 소스 모니터링 장치 (Ion Source Monitoring Unit) 가 장착됩니다. Samsputter IIA는 작동이 쉽고, 안정적이며, 다양한 박막 증착 요구를 충족시킬 수 있습니다. 강력한 구성과 고성능 (HPF) 기능을 통해 신뢰할 수 있는 스퍼터링 툴을 필요로 하는 고객에게 최상의 선택이 가능합니다.