판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nimbus 314 #9206551

TEL (NEXX) 의 TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 314 (스퍼터링 장비) 는 저렴한 비용으로 우수한 품질의 필름을 제작하기 위해 설계된 맞춤형 구성 가능한 스퍼터 시스템입니다. TEL Nimbus 314는 3 개의 독립적 인 대상으로 구성된 3 개의 플래튼 디자인을 사용하여 여러 개의 단위 셀이나 금속을 동시에 스퍼터링 할 수 있습니다. "스퍼터 '된" 필름' 은 또한 전기 저항성, 결정성, 습기 특성 과 같은 특성 에 맞추어 정확 한 "필름 '을 만들어 낼 수 있다. NEXX 님버스 314 (NEXX Nimbus 314) 는 고유 한 자기 제한 플라즈마 소스를 사용하여 다른 스퍼터링 시스템보다 대상 챔버에서 더 높은 농도의 이온을 생성합니다. 이로 인해 스퍼터링 된 필름 (sputtered film) 에서 증착률이 높아지고 균일성이 높아져 오염 가능성이 줄어들고 대량 응용에 이상적입니다. 자기적으로 제한 된 플라즈마 소스는 또한 님버스 314 (Nimbus 314) 가 귀금속에서 합금 및 반도체 재료에 이르기까지 광범위한 표적 물질을 처리 할 수있게한다. TOKYO ELECTRON NIMBUS 314는 효율성과 유연성도 극대화하도록 설계되었습니다. 조정 가능한 공급 장치 (Adjustable Supply Unit) 는 대상 재료가 효율적이고 일관되게 스퍼터링되도록 다양한 전압 (Voltage) 과 기판을 제공하도록 구성 할 수 있습니다. 정밀 각도 조정에 사용될 수있는 각도 불변 이온 건 (angle invariant ion gun) 과 사용 가능한 스퍼터링 면적을 늘리고 정확도를 집중시키는 조정 가능한 입사각 (adjustable incident angle) 도 특징입니다. TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 314에는 직관적이고 쉽게 작동 할 수있는 사용자 인터페이스가 있으므로 숙련 된 전문가와 신규 사용자 모두에게 이상적인 선택입니다. 또한 필름 (Film) 증가를 모니터링하기 위한 도구 세트와 최대 효율성과 반복성을 위해 다양한 매개변수를 조정하는 자동화된 프로세스 (automated process) 가 제공됩니다. 또한, 이 기계는 스퍼터 (sputtered) 물질에 대한 우발적 노출로부터 사용자를 보호하기 위해 설계된 안전 기능을 구축했습니다. 요약하면, TOKYO ELECTRON (TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX) 의 TEL Nimbus 314는 최적의 성능과 뛰어난 필름 품질을 위해 고도로 구성되고 효율적인 스퍼터 도구입니다. 고도의 유연성을 제공하여, 사용자가 필름을 사용자 정의하여 정확한 요구 사항을 충족할 수 있도록 합니다. 이 자산은 강력한 자기 제한 혈장 공급원 (magnetically limited plasma source) 을 활용하여 농도가 높고 범위가 균일한 이온을 생성하여 증착률이 더 일관되고 품질 필름 성장이 높아집니다. 또한 포괄적인 사용자 인터페이스 (user interface) 와 다양한 자동화 프로세스 (automated process) 를 통해 효율성 및 안전성이 향상되었습니다.