판매용 중고 PROVAC PAS200T #9116850
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ID: 9116850
웨이퍼 크기: 12"
High vacuum sputtering system, 12"
Square wafers up to 8" x 8" can be coated with a distribution of < + -5%
Automatic loading and unloading
Substrates to be processed are picked up from the respective cassettes by robot handling and placed on the coating tables
Substrates subsequently evacuated and moved into the process chamber
Throughput: ≤ 48 wafers per hour
Maximum temperature of panels: 130°C
Si-sputtering:
Film thickness distribution: < + - 10%
Reproducibility: < + - 5%
Automatic process control
Pump set: High vacuum valves in front of the turbo pumps, one turbo pump each for the process chamber and each load lock
Magnetron: 1 x 16" ONYX-cathode with rotary magnet Pulsed DC magnetron power supply Silicon target 16"
High vacuum inline
Process chamber
(2) Load locks
Robot handling
Basic frame
Size of PC rack: integrated within the frame
Electric supply: (3) phases, full load capacity N, PE
Electrical connection data:
Voltage: 3 x 400V / 230V AC / ± 10%
Frequency: 50 or 60Hz ± 1%
Voltage: 35A
Currently warehoused.
PROVAC PAS200T는 박막 증착을 위해 설계된 스퍼터링 장비이며 PVD 코터 시리즈의 인더 프리터입니다. 이 시스템은 다양한 기판에 최고 품질의 스퍼터 증착을 제공하여 전자, 광학, 실리콘, 반도체, 기타 여러 산업 및 응용 분야에 이상적입니다. PAS200T는 최대 20 개의 재료를 스퍼터링 할 수 있으며, 다양한 소형, 중형 또는 대규모 기질에서 금속 합금, 산화물, 질화물, 텔루 라이드 및 탄화물에 사용할 수 있습니다. 이 장치는 또한 다양한 프로세스 제어 (process control) 를 통해 최종 결과에서 원하는 재료 특성 (material characteric) 과 특성 (properties) 을 달성합니다. 플라즈마 전력, 압력, 가스 흐름 속도, 증착율, 필름 두께 제어 등 다양한 프로세스 매개변수를 관리하는 기능을 제공합니다. 기계는 울트라 하이 진공 실로 둘러싸여 있습니다. 챔버 (chamber) 는 외부 내부 환경으로부터 격리되어 박막 증착에 대한 최적의 프로세스 조건을 보장합니다. 이 도구는 또한 상단 위치 대상 홀더 (top-posoned target holder) 를 갖추고 있어 균일 한 회전 및 일관된 스퍼터링 재료 노출이 보장됩니다. 두 개의 선형 번역 단계 (Linear Translation Stage) 를 통해 엔지니어는 배치 과정에서 기판을 위아래로 이동하여 최적의 증착률과 균일 한 코팅을 얻을 수 있습니다. 또한 내장 콜리메이터 (Collimator) 가 장착되어 있으며, 스퍼터 (Sputtered) 재료를 기판의 선택된 영역에 마스킹하고 초점을 맞추는 데 사용됩니다. 그 에 더하여, "에셋 '은 기판 에 증착 될 물질 의 종류 에 따라 다양 한" 음극' 과 함께 사용 될 수 있다. PROVAC PAS200T는 또한 진공, 공기, 수압 경보, 온도 센서, 진공 모니터 등 다양한 안전 및 편의성 기능을 제공하여 작동 성과 안전을 보장합니다. 또한 장비 부품을 보호하기 위한 고온 보호 (High Temperature Protection) 모델과 위험한 부품에 대한 액세스를 방지하기 위한 기계식 드라이브 화면 (Mechanical Drive Screen) 도 포함되어 있습니다. 마지막으로, 이 장비에는 편리한 디지털 입력 (digital input) 및 출력 (output) 세트가 포함되어 있어 사용자가 모든 컴퓨터에서 시스템을 쉽게 작동시킬 수 있습니다. 결론적으로, PAS200T는 박막 증착을위한 신뢰할 수있는 스퍼터링 장치 (sputtering unit) 로, 수많은 산업 및 응용 분야에 이상적입니다. 프로세스 제어 (process control) 기능의 배열은 변동성과 정확성을 허용하는 반면, 다양한 안전 및 편의성 기능은 사용자 친화성을 보장합니다.
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