판매용 중고 PERKIN ELMER 4450 #9114027

PERKIN ELMER 4450은 주로 재료의 박막 증착 및 분석에 사용되는 스퍼터링 시스템입니다. 나노 구조 (nanosstructured) 재료의 증착, 전도 계층 형성 등 다양한 연구 개발 작업에 이상적입니다. 장비는 대상 홀더가있는 스퍼터 챔버 (sputter chamber), 공정 가스 입구 (process gas inlet) 및 대상 아래에 위치한 플랫 플레이트 기판 홀더로 구성됩니다. 챔버 내부에서, 고순도 아르곤 (argon) 또는 기타 비활성 가스는 핫 음극 (hot cathode) 또는 전자 총 (electron gun) 에 의해 이온화되어 표적에서 기판으로 물질을 스퍼터링한다. 이 "플라즈마 '의 스퍼터드' 증착 은 느리고 잘 조절 된 과정 으로서, 금, 구리," 크롬 '과 같은 재료 의 정확 한 두께 에서 얇고 균일 한 층 을 규소, 유리, 도자기 와 같은 기판 에 증착 시킬 수 있게 해 준다. 시스템의 컴퓨터 제어 소프트웨어 (computer-controlled software) 를 사용하면 기판 온도 또는 스퍼터 속도 (sputter rate) 와 같은 특정 증착 요구 사항에 맞게 광범위한 프로세스 매개변수를 설정하고 조정할 수 있습니다. 여기에는 가스 압력, 기판 바이어스, 목표 전력, 기판 곡률 및 입사각이 포함됩니다. 4450은 증착되는 층의 표면 조성, 화학 조성, 조성 프로파일에 대한 전체, 현장 분석 (in-situ analysis) 을 가능하게한다. 이 작업은 증착실 (deposition chamber) 에 직접 적절한 외부 분석 장비를 설치하여 수행됩니다. 이러한 분석을 통해 연구원은 배치된 레이어의 특성을 최적화하고 원하는 레이어 두께 (layer thickness), 컴포지션 (composition) 및 프로파일을 확인할 수 있습니다. 또한, PERKIN ELMER 4450을 사용하면 이온 빔 믹싱 (ion-beam mixing) 또는 반응성 스퍼터링 (reactive sputtering) 과 같은 증착 필름의 품질을 향상시키는 다양한 기술을 구현할 수 있습니다. 이러 한 기술 은 증착 될 수 있는 물질 의 범위 를 확장 시키고, 층 의 전기, 광학, 열적 특성 을 향상 시키며, 질화물, 탄화물 과 같은 화합물 의 형성 을 가능 케 한다. 4450은 매우 정교한 스퍼터링 시스템으로, 완전한 in-situ 분석을 통해 정확하고 반복 가능한 박막 증착을 제공하도록 설계되었습니다. 사용 가능한 다양한 매개변수 (parameter) 와 설정 (settings) 을 통해 연구자들은 다양한 기판에 다양한 재료를 배치하고 레이어 (layers) 속성을 제어하고 최적화할 수 있는 기능을 제공합니다.