판매용 중고 OERLIKON / UNAXIS Clusterline 200 #293802334

OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200은 반도체, 태양 광 및 광학 코팅과 같은 다양한 산업에서 박막 증착을 위해 설계된 고급형 스퍼터링 장비입니다. 이 스퍼터링 시스템은 클러스터 도구 아키텍처를 사용하여 증착 공정의 처리량과 유연성을 높입니다. UNAXIS Clusterline 200 은 정확한 필름 두께 제어, 균일성, 재현성으로 유명하므로 대용량 생산 환경에 이상적인 선택입니다. OERLIKON Clusterline 200 장치의 중심에는 단일 플랫폼 내에 통합 된 여러 프로세스 챔버가 있습니다. 이 아키텍처는 여러 기판의 병렬 처리를 가능하게 하며, 생산성과 효율성을 대폭 향상시킵니다. 각 공정 챔버에는 자체 스퍼터링 대상 (sputtering target) 과 전원 공급 장치 (power supply) 가 장착되어 기판에 서로 다른 재료를 동시에 또는 순차적으로 배치 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 기판 적재 및 언로드를위한 로드 잠금 챔버 (load-lock chamber) 를 갖추고 있어 증착 실행 사이의 다운타임을 최소화합니다. Clusterline 200에는 마그네트론 스퍼터링 (magnetron sputtering) 및 반응성 스퍼터링 (reactive sputtering) 과 같은 최첨단 스퍼터링 소스가 장착되어 다양한 재료 및 필름 특성에 대한 광범위한 증착 옵션을 제공합니다. 스퍼터링 대상은 일반적으로 금속, 산화물, 질소와 같은 물질로 만들어지며, 박막 증착 응용 분야에서 다재다능성을 제공합니다. 이 도구는 현대 박막 기술의 엄격한 요구 사항을 충족시켜 높은 증착율 (deposition rate) 을 달성하고 필름 두께, 구성 및 구조를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한, OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200은 증착율, 전력 소비량, 가스 흐름 속도와 같은 주요 매개 변수의 실시간 모니터링과 같은 고급 프로세스 제어 기능을 통합합니다. 이러한 기능을 통해 운영자는 증착 프로세스를 최적화하여, 균일성과 반복성이 뛰어난 고품질의 박막 (thin film) 을 만들 수 있습니다. 에셋은 또한 레시피 관리 소프트웨어 (recipe management software) 를 제공하여 다양한 증착 레시피에 대한 프로세스 매개변수를 저장하고 리콜할 수 있으며, 모델의 설정과 운영을 간소화합니다. 기판 처리 측면에서 UNAXIS Clusterline 200은 웨이퍼, 유리 패널, 유연한 기판 등 다양한 기판 크기와 유형과 호환됩니다. 이 장비는 표준 및 맞춤형 기판 크기를 모두 수용할 수 있으며, 다양한 생산 요구 사항에 유연성을 제공합니다. 또한, OERLIKON Clusterline 200에는 고급 기판 난방 및 냉각 기능이 장착되어 있으며, 증착 과정에서 정밀한 온도 조절이 가능하여 필름 특성 및 접착력을 최적화합니다. Clusterline 200 스퍼터링 시스템은 높은 안정성, 유지 보수 용이성, 안전성에 중점을 두고 설계되었습니다. 이 장치는 강력한 진공 펌프, 고급 플라즈마 진단 (Plasma Diagnostics) 및 자동 클리닝 루틴을 갖추고 있어 최적의 성능과 가동 시간을 보장합니다. 대상 교체 (Target Replacement), 챔버 클리닝 (Chamber Cleaning), 머신 보정 (Machine Calibration) 과 같은 유지 보수 작업은 사용자 친화적이며 다운타임을 최소화하여 공구의 생산성을 극대화할 수 있도록 설계되었습니다. 결론적으로, OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200 은 다용도 및 고급 스퍼터링 자산으로, 광범위한 애플리케이션을 위한 높은 처리량의 박막 증착 기능을 제공합니다. 클러스터 툴 아키텍처, 고급 스퍼터링 소스, 정확한 프로세스 제어, 기판 처리 기능을 갖춘 UNAXIS Clusterline 200 은 높은 생산성과 안정성을 필요로 하는 프로덕션 환경에서 고품질의 박막 (Thin Film) 을 제작하는 데 가장 적합한 솔루션입니다.