판매용 중고 NEXX / TEL / TOKYO ELECTRON APOLLO XP #9137393
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판매
ID: 9137393
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2014
PVD System configured for manual tray processing, 6"
Manual front end
Load lock degas with (1) roughing pump
Deposition chamber capacity for 5 magnetrons
lOkW power supply
(2) 8" Cryo pumps
M4 Magnetron for Au, Ti, TiW and Pt
Ni Loop Magnetron for Ni
SECS/GEM
2014 vintage.
NEXX/TEL/TOKYO ELECTRON APOLLO XP는 기판에 얇은 물질 필름을 배치하도록 설계된 스퍼터링 장비입니다. 이 "시스템 '은" 펌프' 장치 가 있는 진공실, "스퍼터 '증착 물질 의 근원, 기판 보유자 로 구성 되어 있다. "펌프 '기계 는" 스퍼터' 증착 과정 을 위한 환경 을 준비 하기 위하여 "챔버 '로부터 모든 공기 를 원하는 수준 의 진공 상태 로 대피 시키도록 설계 되었다. 2 단계 터보 분자 펌프 (turbo molecular pump) 는 원하는 진공 수준이 달성되도록 돕는 데 사용됩니다. 일단 대피 한 후, 방은 질소 가스로 제거되어 증착 과정에 깨끗하고 안정적인 환경을 제공합니다. 스퍼터 증착 물질 (sputter deposition material) 의 공급원은 일반적으로 얇은 금속 또는 합금 층이며, 그 후 기판에 기화되고 증착된다. 재료 소스 (material source) 는 일반적으로 챔버 내부의 도가니 안에 포함되어 있으며, 그 후 고온으로 가열되어 물질을 기화시킨다. 일단 기화 되면, 그 물질 은 도가니 에서 "마그네트론 '원 에 의하여 배출 되는데, 이" 마그네트론' 원 에서 전기 전류 를 사용 하여 자기장 을 만든다. 이 자기장 은 도가니 에서 기화 한 물질 을 분출 하여, 기판 을 가로질러 "스프레이 '한다. 공구의 마지막 컴포넌트 (last component) 는 기판 홀더 (substrate holder) 로, 기판을 제자리에 보관하고 재료의 정확하고 일관된 증착을 허용하는 데 사용됩니다. 기판은 일반적으로 스테인리스 스틸 (stainless steel) 또는 구리 (copper) 로 만든 지그에 의해 고정됩니다. 이 "지그 '는 여러 가지 기판 을 수용 할 수 있도록 조정 되고, 또한 재료 의 정확 한 증착 을 촉진 시킬 수 있도록 설계 되었다. 이 3 가지 구성 요소는 TEL APOLLO XP 자산을 형성하며, 결합되면 기판에 재료를 증착시키는 효과적이고 신뢰할 수있는 수단을 제공합니다. 이 모델은 금속과 합금 재료의 박막 (thin film) 을 높은 정밀도와 반복성으로 증착 할 수 있습니다. 이를 통해 광학 코팅, 반도체 처리, 의료 기기 제작 등 다양한 애플리케이션에 이상적인 툴이 됩니다.
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