판매용 중고 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9314540

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star는 미세 전자, 광전자 및 미세 기계 장치 생산과 같은 응용 분야에 대해 박막 증착 및 에칭을 수행 할 때 높은 수준의 정밀도, 정확도 및 신뢰성을 제공하도록 설계된 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 고 진공 챔버, 저 진공 챔버, 일련의 프로세스 컨트롤러 및 관련 장비로 구성됩니다. 스퍼터링 유닛은 주로 얇은 필름 또는 기질에서 얇은 층의 금속, 산화물, 질화물 증착에 사용됩니다. 기계의 고진공 챔버 (high-vacuum chamber) 는 10-7 Torr보다 진공 수준에서 작동하여 초저입자 밀도로 순도 높은 증착을 제공합니다. 이 도구는 10-7 ~ 10-6 Torr의 다양한 압력 설정을 제공하도록 설계되었습니다. 기판 적재 및 언로드를위한 자동 로드 잠금 (load-lock) 자산이 포함되어 있어 깨끗하고 오염이 없습니다. MRC Eclipse Star의 저진공 챔버는 10-3 ~ 10-5 Torr에서 작동하여 고진공 챔버와 대기 사이의 중간 영역을 허용합니다. 저 진공 챔버 (low-vacuum chamber) 는 여러 개의 표적 위치를 특징으로하며, 여러 증착 물질을 동시에 스퍼터링하여 다양한 얇은 층 미세 구조를 가능하게한다. TEL 이클립스 스타 (Eclipse Star) 는 다양한 주요 매개변수를 모니터링, 규제 및 유지 관리하도록 프로그래밍 될 수있는 일련의 고급 프로세스 컨트롤러로 구동됩니다. 이러한 컨트롤러는 흐름 속도, 압력, 온도 등의 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 모델의 소프트웨어 패키지는 사용자에게 데이터 모니터링, 분석, 제어 기능을 제공하여 프로세스 정확도를 높입니다. 이클립스 스타 (Eclipse Star) 는 순도가 높고 핀홀이 낮은 얇은 필름을 만들 수 있도록 설계되었습니다. 이 장비에는 스퍼터링 중 샘플 온도를 모니터링하는 적외선 카메라 (infrared camera) 와 각 스퍼터링 (sputtering) 종의 광학적으로 흥분된 상태를 모니터링하는 광학 방출 분광계 (optical emission spectrometer) 와 같은 현장 진단 메커니즘이 장착되어 있습니다. 따라서 스퍼터 증착 과정을 정확하게 모니터링 할 수 있습니다. 다른 정밀 박막 증착 및 에칭 응용 분야에서, TOKYO ELECTRON 이클립스 스타 (Eclipse Star) 는 가장 까다로운 구성 요소에 대해 정확하게 맞춤형 미세 구조를 제공하는 신뢰할 수 있고 균일 한 필름을 제공합니다. MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star 스퍼터링 시스템은 사용자에게 탁월한 성능과 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다.