판매용 중고 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9112093

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star는 박막 증착에 사용되는 다중 대상 스퍼터링 장비입니다. 그것 은 금속 과 유전체 를 포함 한 여러 가지 물질 의 "코우팅 '에 적합 하다. MRC 이클립스 스타 (Eclipse Star) 는 균일성과 접착력이 뛰어난 영화를 제작할 수 있으며, 광전기 및 평면 패널 장치의 생산에 적합합니다. 스퍼터링 시스템은 다중 표적 자기 편향 RF 흥분 챔버를 기반으로합니다. 이 장치는 두 대상에서 동시에 스퍼터링 (sputtering) 을 수행할 수 있으므로 증착 균일성이 높아지고 처리 시간이 빨라집니다. TEL Eclipse Star에는 조정 가능한 프로세스 제어를 위해 매우 민감한 반응성 가스 공급 머신이 장착되어 있습니다. 밸브와 펌프는 통합 제어 도구 (Integrated Controlling Tool) 내에서 프로그래밍될 수 있으며, 이를 통해 사용자는 프로세스 매개변수를 정확하게 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 통합 진공 자산은 저기압 작동과 효율적인 스퍼터링을 허용합니다. Eclipse Star의 고효율 목표 디자인은 증착률과 더 두꺼운 필름을 높입니다. 최대 필름 두께는 14 미크론을 초과할 수 있습니다. 또한 TOKYO ELECTRON Eclipse Star는 정확성과 균일성이 높은 박막을 정확하게 배치 할 수 있습니다. 또한 고급 기능을 통해 운영자는 에치 레이트 (etch rate) 및 열 안정성 (thermal stability) 과 같은 필름 특성을 보다 세밀하게 제어 할 수 있습니다. MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star의 사용자 인터페이스는 프로세스 매개 변수에 데이터를 로그, 분석 및 저장하는 다양한 기능을 제공합니다. 글로벌 안전 (Global Safety) 및 환경 표준 (Environmental Standard) 을 준수하여 사용자 및 환경의 보호를 보장합니다. 사용자는 모델을 포괄적으로 모니터링하기 위해 원격 액세스 (remote access), 원격 웹 기반 제어 (remote web-based control) 등의 옵션 모듈을 설치할 수도 있습니다. MRC Eclipse Star는 금속, 유전체 및 기타 재료를 포함한 다양한 재료를 처리하는 데 적합합니다. 다양한 클리닝 액세서리 (cleaning accessory) 와 탁월한 박막 증착 품질을 위해 선택 가능한 플라즈마 프리 클리닝 장치 (Plasma Pre-Cleaning Unit) 가 장착되어 있습니다. 이 장비는 뛰어난 접착력을 갖춘 부드럽고 크랙 프리 필름 (crack-free film) 을 생산하는 데 사용할 수 있으며, 고밀도 응용 분야에 적합합니다. 결론적으로 TEL 이클립스 스타 (TEL Eclipse Star) 는 다중 대상, 프로세스 매개변수의 정확한 제어, 탁월한 박막 증착 품질 등의 기능을 갖춘 고도의 스퍼터링 시스템입니다. 여러 응용 프로그램에 적합하며 광전자 (optoelectrical) 및 평면 (flat) 패널 장치의 생산에 적합합니다.