판매용 중고 MRC Redux #293652074

MRC Redux (MRC Redux) 는 얇은 층의 재료를 기판에 입금하기 위해 현대 산업 및 연구 설정에 사용되는 스퍼터링 시스템입니다. 그것 은 "플라즈마 '를 대피 한" 챔버' 내 에 만들고 그것 을 사용 하여 표적 물질 을 폭격 하여 "스퍼터 '를 한 다음 기판 에 담가 둔다. 이 과정은 매우 정확합니다. 즉, 레이어의 두께를 정확하게 제어할 수 있기 때문입니다. Redux의 중심에는 아르곤 (argon), 제논 (xenon) 또는 질소와 같은 공정 가스가 포함 된 진공 챔버가 있습니다. 따라서 프로세스를 안정적으로 수행할 수 있습니다. 진공실 위에는 스퍼터 대상 (sputter target) 이 있는데, 이는 얇은 층에 사용될 재료입니다. 표적 은 "기판 '을 향하도록 배치 되는데, 그것 은" 코우팅' 을 할 재료 이다. 스퍼터링 프로세스를 용이하게하기 위해 마그네트론 헤드 (magnetron head) 를 사용하여 전기장이 생성됩니다. 이 전기장 은 공정 "가스 '로부터 전자 를 방출 시켜" 챔버' 내 에 "플라즈마 '대기 를 만든다. 이 "플라즈마 '내 에서, 공정" 가스' 의 양이온 은 "스퍼터 '표적 방향 으로 이동 하여 그것 을 폭격 하고 보다 작은 원자 의 물질 을 방출 시킨다. "플라즈마 '내 의 음성" 이온' 은 기질 물질 에 끌리는데, 이것 은 양성 "이온 '과 음성" 이온' 의 결합 으로 "코오팅 '을 기판 재료 에 적용 시킬 수 있게 해 준다. 마그네트론의 방전은 일반적으로 500W 미만이지만, 특정 프로세스에 따라 필요에 따라 조정 할 수 있습니다. "마그네트론 '의" 가스' 흐름, 압력 및 방전력 을 조정 함 으로써 표적 에서 제거 된 물질 의 양 을 조절 할 수 있다. 이렇게 하면, 기판 에 적용 되는 재료 의 두께 와 관련 하여 더 많은 정도 의 정확도 를 얻을 수 있다. 그렇다. 또한, "플라즈마 '를 변화 시켜 다른 방출 스펙트럼 을 만들어" 코우팅' 의 특징 을 변화 시킬 수 있다. 전반적으로 MRC Redux (MRC Redux) 는 얇은 층으로 코팅 재료와 관련하여 유연성, 정확성 및 신뢰성으로 인해 선택됩니다. 이 과정은 깨끗하고 균일 한 계층을 생산하며, 이는 많은 산업 및 연구 응용 분야에 이상적입니다.