판매용 중고 MRC Mark IV #293658618

MRC Mark IV 스퍼터링 장비는 반도체 웨이퍼 처리 응용 프로그램을 위해 특별히 설계 및 설계된 최첨단 스퍼터링 시스템입니다. 이 장치는 고온 챔버 (high-temperature chamber) 로 구성되어 추가 보충 가열 요소 없이 최대 1000 ° C의 온도에서 샘플을 처리 할 수 있습니다. 이 챔버는 또한 산소 민감성 응용에 이상적인 비활성 대기를 특징으로합니다. 또한 Mark IV 는 고급 전원 공급 장치와 컨트롤러 (컨트롤러) 를 장착하여 정밀한 전원 공급 및 반복 기능을 제공합니다. 이 기계는 다양한 스퍼터링 스크립트 (sputtering script) 로 사전 프로그래밍 될 수 있으며, 1nm ~ 20äm 정도의 다양한 재료와 필름을 스퍼터링할 수 있습니다. 이 도구는 또한 전자 빔 증발, 광선 방전 및 PECVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition) 기능과 같은 여러 보조 보조기를 제공합니다. 다양한 처리 기술을 통해 필름 강착 속도 (rate of film deposition) 와 속도 균일성 (rate uniformity) 을 보다 정확하게 제어 할 수 있습니다. 자산에는 "무인 운영 (Unattended Operation) '을 가능하게 하는 고급 자동화 (Automation) 모델도 함께 제공되며, 장비 실행 중에도 레시피와 제어 매개변수를 조정할 수 있습니다. 또한 MRC Mark IV는 MRC SputterPac 소프트웨어의 최신 반복으로 설계되어 다른 시스템과 쉽게 통합 할 수 있습니다. 또한 강력한 진단 및 제어 기능을 통해 사용자는 이더넷 (Ethernet) 연결을 통해 시스템을 원격으로 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 이 장치에는 내부 (in-situ) 프로세스를 표시하는 비디오 모니터가 장착되어 있어 프로세스를 자세히 검사할 수 있습니다. 전반적으로 Mark IV는 반도체 웨이퍼 처리를위한 포괄적 인 스퍼터링 머신을 제공합니다. 저온 챔버, 하이엔드 전원 공급 장치 및 컨트롤러, 정교한 자동화 도구, 강력한 소프트웨어는 사용자가 정확하고 반복 가능한 스퍼터링 기능을 제공하여 MRC Mark IV를 광범위한 산업 및 과학 어플리케이션에 이상적인 스퍼터링 에셋으로 만들었습니다.