판매용 중고 MRC Mark II #9269893

MRC Mark II는 MRC 테크놀로지스 (MRC Technologies) 가 개발한 스퍼터링 장비로, 다양한 산업 및 응용 분야에 사용됩니다. 스퍼터링, 박막 증착 및 열 증발을 수행 할 수있는 다중 구성 요소 증발 시스템입니다. Mark II는 원하는 최종 적용에 따라 다양한 스퍼터링 음극, 대상 재료 및 크기를 수용 할 수 있습니다. 주변 압력이 있는 닫힌 루프 (closed-loop) 장치로, 광범위한 프로세스 매개변수를 유지할 수 있습니다. MRC Mark II는 내구성과 화학 내구성이 뛰어난 6mm 두께의 스테인리스 스틸 챔버 (stainless chamber) 와 증착 과정 모니터링을 돕기 위해 셔터가있는 2 개의 0.5 "두께의 쿼츠 뷰포트 (viewport) 를 갖추고 있습니다. 기판 홀더가 장착 된 회전 셔틀을 사용하면 프로세스 모듈 간에 쉽게 전송할 수 있습니다. 그것의 고급 다단 여과 기계는 공정 챔버의 오염을 방지하고 스퍼터 대상 (sputtered target) 을 산화로부터 보호합니다. Mark II는 진공 또는 대기 모두에서 다중 계층 증착을 수행 할 수 있습니다. 리프터 (lifter) 는 고르지 않은 표면에 균일 한 증착을 허용하고, 가변 전원 공급 장치는 이온 에너지를 정확하게 제어하여 금속, 산화물, 질화물을 증착 할 수있는 기능을 제공합니다. 플라즈마 소스 전원 공급 장치는 이온 폭격 및 스퍼터 속도를 제어하는 반면, 12 위치 회전 테이블은 프로세스 간 샘플을 빠르게 전송합니다. MRC Mark II는 또한 다양한 증착 예제 조합에 사용될 용량을 가지고 있습니다. RF/DC 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링, 이온 빔 스퍼터링, 물리적 증착 및 열 증발이 그 예입니다. 예를 들어, 다양한 증착원과 결합하여 IBS-RF-스퍼터링 도구 (IBS-RF-sputtering tool) 로 챔버를 형성 할 수 있으며, 다양한 기판 재료에 초박형 및 다층 필름을 증착 할 수 있습니다. 최신 제어 및 모니터링 기능에는 실시간 프로세스 및 온도 모니터링, 프로세스 진단, 가변 가스 제거 속도 제어 (variable gas purge rate control) 등이 있습니다. 이를 통해 전체 프로세스에 대한 정확한 모니터링과 고품질 박막 (Thin Film) 실행에 대한 매개변수 반복 기능을 사용할 수 있습니다. 마크 II (Mark II) 는 다양한 응용 분야와 재료에 대한 박막 증착이 필요한 실험실 및 생산 시설에 이상적인 솔루션입니다.