판매용 중고 MRC Eclipse #9144009

MRC Eclipse는 반도체, 코팅 광학, 나노 기술 등 다양한 산업에서 널리 사용되는 스퍼터링 장비입니다. 스퍼터링 입자의 운동 에너지를 제어하기 위해 PAD (Plasma Activated Deposition) 기술을 사용하여 뛰어난 코팅 특성과 더 큰 공정 안정성을 보장합니다. PAD 기술을 사용하면 더 높은 처리량, 개선 된 균일성 및 예금 된 필름의 우수한 접착이 가능합니다. 이클립스 (Eclipse) 는 개선 된 디자인과 독점 기술의 조합을 사용하여 뛰어난 스퍼터링 프로세스를 달성합니다. 한 쌍의 모션 스테이지가 특징이며, 각 모션 스테이지에는 한 쌍의 PC 기반 프로세스 컨트롤러가 장착되어 있습니다. 컨트롤러에는 강력하고, 앞으로도 생각하는 소프트웨어가 장착되어 있어 스퍼터 (sputter) 프로세스를 정확하게 제어할 수 있습니다. 고급 알고리즘은 스퍼터링 프로세스 (sputtering process) 동안 발생할 수있는 다양한 비선형 현상을 보상합니다. 또한 자동 일괄 처리 기능으로 간단한 레시피 기반 처리를 지원합니다. MRC Eclipse의 진공실은 이중 벽 절연이며, 열 안정성이 향상됩니다. 또한 운영 비용을 절감하고 가스 소비를 최소화하는 최적화된 설계 (Optimized Design) 를 제공합니다. 챔버에는 전용 앤티 챔버 (antechamber) 가 있어 빠른 챔버 처리량을 허용합니다. 또한 Eclipse에는 도구 성능을 향상시킬 수 있는 몇 가지 고유 기능이 있습니다. 고속 압력 센서와 피드백 (feedback) 칩은 지속적으로 압력 성능을 모니터링하고 보상하며, 프로세스 안정성과 안정성을 최적화합니다. 또한, 이 시스템에는 단위 성능을 지속적으로 추적하고 프로세스 최적화 및 프로세스 추적에 유용한 정보를 제공하는 신뢰할 수 있는 배치 모니터 (deposition monitor) 가 포함되어 있습니다. 이러한 모든 기능을 통해 MRC 이클립스 (MRC Eclipse) 는 뛰어난 품질과 성능을 제공할 수 있는 안정적이고 비용 효율적인 스퍼터링 머신이 됩니다. 마스킹 (Masking), 패턴화 (Patterning), 에칭 (Etching) 등 다양한 업종에서 널리 사용되며, 탁월한 기술과 신뢰성 있는 성능으로 인해 고도의 정밀 스퍼터링 프로세스에 적합합니다.