판매용 중고 MRC 943 #9227138

MRC 943은 얇은 필름을 기판 표면에 배치하는 데 사용되는 스퍼터링 장비입니다. 고에너지 입자로 표적 (target) 물질을 폭격하여 표적의 작은 부분을 제거하고 기판에 증착시킨다. 이 시스템은 스퍼터링 소스와 목표 음극을 수용하는 진공 챔버 (vacuum chamber), 저압 환경 유지를위한 진공 펌핑 장치 (vacuum pumping unit), 전류 제어를위한 전원 공급 장치 세트 및 공정 온도 컨트롤러 (process temperature controller) 로 구성됩니다. 표적은 일반적으로 금속, 합금, 도자기, 미네랄 등 다양한 물질로 만들어집니다. 일반적으로 스퍼터 수율을 증가시키기 위해 고온으로 가열됩니다. 표적 물질을 스퍼터링하는 데 사용되는 고에너지 입자는 마그네트론 소스 (magnetron source) 또는 RF 소스 (RF source) 에서 나올 수 있습니다. 이 과정 은, 증착 속도 를 조절 하기 위해, 광범위 한 압력 을 가할 수 있다. 스퍼터링 챔버 내부의 진공 환경 (vacuum environment) 은 잠재적으로 발생할 수있는 경쟁 반응의 수를 제한함으로써 스퍼터링 물질의 수율을 극대화하는 데 도움이됩니다. 압력은 일반적으로 압력 측정 단위 인 1 밀리토르 미만으로 유지됩니다. 공정 온도 (process temperature) 는 온도 제어기 (temperon controller) 를 통해 조절 될 수도 있으며, 이를 통해 스퍼터링 프로세스가 훨씬 더 높은 속도로 발생할 수 있습니다. "기판 '과 표적 에 적용 되는 전류 를 제어 하기 위하여 기계 는" 에너지' 공급 장치 를 이용 한다. 전원 공급 장치를 프로그래밍하여 상수 (constant) 또는 펄스 (pulsed) 전류 작동 모드를 제공할 수 있습니다. 상수 (constant) 모드에서, 전원 공급 장치는 표적 (target) 및 기판 재료 (substrate material) 에 연속적인 중단 없는 전류를 공급할 수 있으며, 기판 전체에 균등한 증착이 가능합니다. 펄스 (pulsed) 모드에서 전원 공급 장치는 전류 (electrical current) 를 빠르게 켜고 끌 수 있으므로 고도로 제어되는 증착이 가능합니다. 943은 기판에서 박막 증착을위한 매우 효율적이고 정확한 도구입니다. 높은 스퍼터 수율, 정확한 온도 및 압력 제어는 반도체 및 솔리드 스테이트 장치 제작, 마이크로 일렉트로닉스, 광학, 평면 패널 디스플레이 (Flat Panel Display) 생산 등 다양한 응용 분야에 이상적인 스퍼터링 자산입니다. 효율적인 작동과 견고한 설계로, MRC 943은 안정적이고 반복 가능한 필름 증착에 이상적인 모델입니다.