판매용 중고 MRC 942 #9171703

MRC 942는 연구 및 개발을 위해 설계된 다목적, 자기 제어, 다중 표적 마그네트론 스퍼터링 장비입니다. 사용 가능한 가장 고급적이고 신뢰할 수있는 스퍼터링 시스템 중 하나입니다. 942에는 자석 설정 및 대상 전류를위한 최고급, 풀 레인지 DC/RF 전원, 진공 펌프 및 컨트롤러가 장착되어 있으며, 최대 4 개의 타겟을 독립적으로 스퍼터링할 수 있습니다. 이 시스템은 기후 조절, 낮은 진동, Class A 청소실 내에 위치하여 스퍼터링을위한 오염이없는 환경을 제공합니다. 사용자는 다양한 매개변수와 설정을 통해 MRC 942 를 사용자 정의하여 연구 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 942 는 자기장 과 함께 "마그네트론 '음극" 스퍼터링' 원 을 이용 하여 표적 에 "이온 플럭스 '를 정확 히 제어 한다. 이 필드는 특수 컴퓨터 제어 영구 자석을 사용하여 생성됩니다. MRC 942는 또한 자동 압력 조정 기능이있는 광학 기본 압력 측정 장치 (optical base pressure measurement unit) 를 통해 안정적이고 반복 가능한 결과를 보장합니다. 942 에는 고유한 이동 대상 (moving-target) 기술이 포함되어 있는데, 이 기술을 통해 스퍼터링 대상 간의 상대적 분리를 0 - 50 mm 사이의 어느 곳에서나 변경할 수 있습니다. 이 기능은 향상된 유연성을 제공하며, 기판의 금속 퇴적물로 인한 잠재적 그림자 효과를 제거하는 데 도움이됩니다. MRC 942는 LCD 터치스크린과 같이 손쉬운 제어 및 데이터 녹화를 위한 고급 사용자 친화적 기능 (예: LCD 터치스크린), 과도한 스퍼터링을 방지하는 자동 배일 덤프 (bail-out dump), 최적의 프로세스 조건을 보장하는 동적 프로세스 모니터링 머신, 다양한 사용자 정의 패키지 및 액세서리 연구 요구 사항. 이 모든 기능을 사용하면 박막 증착 (Thin film deposition), 장벽 층 증착 (barrier layer) 및 기타 기능 계층 증착 (functional layer deposition) 을 포함한 다양한 응용 프로그램에 942를 사용할 수 있습니다. MRC 942 는 프로세스 개발, 프로세스 제어 개선, 모니터 레이어 증착 (monitor layer deposition), 맞춤형 증착 솔루션 (custom deposition solutions) 생성 등에 사용되었든, 스퍼터링 연구 개발 (Sputtering Research and Development) 의 경계를 그 어느 때보 다 밀어낼 수 있습니다.