판매용 중고 MRC 903M #9166698

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MRC 903M
판매
제조사
MRC
모델
903M
ID: 9166698
RF Sputtering system (3) Target Cryo pumped CTI Cryotorr 8 Loadlock Target size: 5" x 15" (3) RF Cathodes (1) RF Etch Heating function: No MKS 252 Exhaust valve controller Facility: 208 V, 100.0 A, 60 Hz, 3 Phase Currently warehoused.
MRC 903M 스퍼터링 장비 (MRC 903M sputtering equipment) 는 금속 및 반도체와 같은 기질의 특성을 향상시키기 위해 박막 증착에 사용되는 장치입니다. 그것 은 "화합물 '이나 원소" 합금' 을 정확 하게 제어 하고 균일 한 방법 으로 기판 의 표면 에 배치 할 수 있다. MRC 903 M (MRC 903 M) 은 마그네트론 스퍼터링 (magnetron sputtering) 을 수행하도록 특별히 설계되었는데, 이는 자기장을 사용하여 물체에서 기판에 스퍼터링되는 아크를 생성하는 과정이다. 이 과정 은 "기질 '의 전기 전도성 혹은 내식성 을 향상 시키는 데 사용 될 수 있다. 903M은 또한 다른 형태의 스퍼터링 인 RF 스퍼터링을 할 수 있습니다. 903 M은 고출력 스퍼터링 소스와 초고진공 유지를위한 터보 분자 펌프 (turbomolecular pump) 를 갖춘 진공 시스템이다. 또한 스퍼터링 프로세스의 온도, 압력, 지속 시간을 제어하기위한 멀티 스트로크 컨트롤러 (multiple-stroke controller) 와 프로그래밍 가능한 논리 컨트롤러 (programmable logic controller) 가 있습니다. 이 장치 는 "스퍼터링 '" 가스' 압력 을 정확 하게 조절 하여 매우 얇은 "필름 '을 증착 시킬 수 있다. 또한, 동일한 기질에 2 가지 다른 유형의 금속을 동시에 증착 할 수있다. MRC 903M (MRC 903M) 은 매우 안정적이며 다양한 기판에서 일관되고 정확하게 여러 스퍼터링 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 성능은 크게 줄이지 않고, 장기간 지속될 수 있습니다. 또한, 기계는 매우 유연하며, 다양한 유형의 스퍼터링 프로세스에 대해 쉽게 조정 할 수 있습니다. 또한 다른 스퍼터링 시스템과 비교하여 유지 관리가 쉽고 비용 효율적입니다. 다재다능한 기능으로 인해, MRC 903 M 스퍼터링 도구는 박막 증착이 필요한 다양한 산업에서 사용하기에 이상적입니다. 이러한 산업의 예로는 태양 에너지, 광전자, 마이크로 전자 및 의료 용품이 있습니다. 단일 기판에서 여러 스퍼터링 (Sputtering) 프로세스를 수행할 수있는 능력은 매우 효율적인 장치로, 정확하고 비용 효율적인 제작이 가능합니다.
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